Si下地層上のCo/Cu多層膜の結晶性とGMR特性
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概要
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- 2000-09-01
著者
-
中川 茂樹
東工大
-
清水 優
(株)東芝セミコンダクター社
-
斉藤 弘幸
東京工業大学 電子物理工学専攻
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直江 正彦
東工大
-
直江 正彦
東京工業大学大学院 理工学研究科 電子物理工学専攻
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直江 正彦
東京工業大学工学部
-
直江 正彦
Dept. Of Physical Electronics Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
-
直江 正彦
東大
-
直江 正彦
東工大 工
-
直江 正彦
東工大・工
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斉藤 弘幸
東工大
-
清水 優
東工大
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院
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