直江 正彦 | 東京工業大学大学院 理工学研究科 電子物理工学専攻
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概要
関連著者
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直江 正彦
東京工業大学大学院 理工学研究科 電子物理工学専攻
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直江 正彦
東工大・工
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直江 正彦
東京工業大学工学部
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直江 正彦
Dept. Of Physical Electronics Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
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直江 正彦
東京工業大学
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直江 正彦
東京工業大学 電子物理工学専攻
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中川 茂樹
東京工業大学
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中川 茂樹
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
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直江 正彦
東大
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中川 茂樹
東京工業大学大学院
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佐藤 厚
東京工業大学 電子物理工学専攻
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佐藤 厚
東京工業大学大学院理工学研究科
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松下 伸広
東京工大 応用セラミックス研
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松下 伸広
東京工業大学
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直江 正彦
東工大
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松下 伸広
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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中川 茂樹
東工大
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佐々木 一郎
東京工業大学
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直江 正彦
東工大 工
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馮 潔
東京工業大学電子物理工学専攻
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清水 優
(株)東芝セミコンダクター社
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斉藤 弘幸
東京工業大学 電子物理工学専攻
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船橋 信彦
東京工業大学電子物理工学専攻
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佐藤 厚
東工大
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高山 和久
東京工業大学工学部
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清水 優
東京工業大学 電子物理工学専攻
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村社 智宏
東京工業大学工学部電子物理工学科
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森迫 昭光
信州大学
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北本 仁孝
東工大
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佐々木 一郎
東工大
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鈴木 一隆
信州大・工
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松下 伸広
東工大
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松本 光功
信州大学工学部
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北本 仁孝
Department Of Innovative And Engineered Materials Tokyo Institute Of Technology
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北本 仁孝
東工大 電子物理工
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村社 智宏
東京工業大学工学部電子物理工学科直江・中川研究室
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窪野 智浩
信州大学工学部
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阿部 正紀
東工大
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阿部 正紀
東京工業大学工学部
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北本 仁孝
東京工業大学
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久我 淳
NHK放送技術研究所
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阿部 正紀
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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沼澤 潤二
NHK 放送技術研究所
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松本 光功
信州大学工学部情報工学科
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森迫 昭光
信州大学工学部情報工学科
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水野 啓介
東京工業大学
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窪野 智浩
信州大学工学部情報工学科
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鈴木 一隆
信州大学工学部情報工学科
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森迫 昭光
信州大・工
-
窪野 智浩
信州大・工
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松本 光功
信州大・工
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米田 与志朗
NHK放送技術研究所
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斉藤 弘幸
東工大
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清水 優
東工大
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馮 潔
東工大
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酒巻 直人
東京工業大学工学部
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松野 圭介
東京工業大学大学院 理工学研究科 電子物理工学専攻
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船橋 信彦
東工大
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浪川 達男
東京工業大学工学部電子物理工学科
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金田 久美子
東京工業大学工学部電子物理工学科
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渡部 康
東京工業大学工学部電子物理工学科
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一瀬 誠
東京工業大学工学部電子物理工学科
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酒巻 直人
東京工業大学
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張 副春
東工大
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福田 匡広
東京工業大学工学部電子物理工学科
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久我 淳
日本放送協会 放送技術研究所
-
久我 淳
NHK 放送技術研究所
-
米田 与志朗
NHK 放送技術研究所
-
松野 圭介
東京工業大学
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阿部 正紀
東京工業大学
著作論文
- 異常Hall効果を用いた垂直記録媒体の磁化過程観測
- 異常Hall効果を用いたCo-Cr-Ta/Pt垂直磁化膜の磁化過程観測
- 異常 Hall 効果を用いたCo-Cr-Ta/Pt垂直磁化膜の磁化過程観測
- Bi添加バリウムフェライト薄膜の特性
- Bi添加バリウムフェライト薄膜の特性
- MR2000-14 Si下地層によるCo/Cu多層膜のGMR特性改善
- Si下地層上のCo/Cu多層膜の結晶性とGMR特性
- Si下地層上のCo/Cu多層膜の結晶性とGMR特性
- スピンバルブ用反強磁性FeMn膜のSi下地層による特性改善(磁性薄膜及び一般)
- 異常Hall効果を用いた垂直記録媒体の磁化過程観測
- 異常Hall効果を用いたCo-Cr-Ta/Pt垂直磁化膜の磁化過程観測
- Co-Cr-Ta/Pt/Ti垂直記録膜の作製とPt中間層による微細粒子化
- Co-Cr-Ta/Pt/Ti垂直記録膜の作製とPt中間層による微細粒子化
- Co-Cr垂直記録媒体における非磁性シード層の基板温度最適化
- 垂直磁気記録用Co-Cr-Ta/Pt二層膜の作製
- 垂直磁気記録用Co-Cr-Ta/Pt二層膜の作製
- Co-Cr垂直磁化膜の異常ホール効果測定と磁気特性の評価
- 強磁性Hall効果による極薄Co-Cr薄膜の磁化過程解析
- 強磁性Hall効果による極薄Co-Cr薄膜の磁化過程解析
- C-7-8 Ar・Kr混合ガススパッタによるSrフェライト薄膜の作製
- 垂直磁気記録媒体用六方晶フェライト薄膜の特性改善
- Pt下地層改良によるBaMフェライト薄膜の微粒子化
- Pt下地層改良によるBaMフェライト薄膜の微粒子化
- 磁性薄膜講座 VI : 6. 磁気ヘッド用磁性薄膜
- 対向ターゲット式スパッタ法により作製した(La,Sr)MnO_3薄膜の磁気特性
- スパッタ法・めっき法によるフェライト薄膜の堆積技術と構造・物性の比較
- 磁性薄膜講座 V : 5. 記録媒体用磁性薄膜
- Pt下地層を用いたBaフェライト垂直磁気記録媒体の特性改善
- Coスピネル系フェライト薄膜媒体の記録特性と低ノイズ化
- CoNiフェライト垂直記録媒体の磁気特性と記録再生特性
- Cr下地層の改善による長手磁気記録用Co-Cr-Ta薄膜の特性改善(磁性薄膜及び一般)
- Al置換BaMフェライト薄膜の磁気特性
- PtおよびAu下地層を使用したBaフェライト薄膜の作製
- Pt下地層を用いたBaフェライト垂直磁気記録媒体の特性改善
- 磁性薄膜講座 IV : 4. 構造制御磁性薄膜
- 磁性薄膜講座III : 3. フェリ磁性薄膜
- 磁性薄膜講座 II : 2. 強磁性薄膜材料
- 磁性薄膜I 1.堆積方法
- Co-Cr-Ta-Mo垂直媒体の磁気特性と記録再生特性
- 異常Hall効果を用いたCo-Cr-Ta/Pt垂直磁化膜の磁化過程観測
- Coスピネル系フェライト薄膜媒体の記録特性と低ノイズ化
- 会長就任にあたって