森迫 昭光 | 信州大学工学部情報工学科
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概要
関連著者
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森迫 昭光
信州大学工学部情報工学科
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森迫 昭光
信州大学
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松本 光功
信州大学工学部
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武井 重人
信州大学工学部
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松本 光功
信州大学工学部情報工学科
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劉 小晰
信州大学
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劉 小晰
信州大学工学部
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伊藤 一幸
信州大学工学部
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庄村 聡
信州大学工学部
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榮岩 哲二
信州大 工
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斉藤 誠
信州大学
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片山 信宏
信州大学工学部
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上水 孝徳
信州大学工学部
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高村 幸良
信州大学工学部情報工学科
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高村 幸良
信州大学工学部
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窪野 智浩
信州大学工学部
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斉藤 誠
信州大学工学部
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榮岩 哲二
信州大学地域共同研究センター
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張 林佳
信州大学工学部
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小穴 和行
信州大学工学部
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直江 正彦
東京工業大学 電子物理工学専攻
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直江 正彦
東京工業大学大学院 理工学研究科 電子物理工学専攻
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直江 正彦
東京工業大学工学部
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直江 正彦
Dept. Of Physical Electronics Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
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鈴木 一隆
信州大・工
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柴原 正典
TDK(株)開発研究所基礎研究部
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藤田 雄二
株式会社三協精機製作所開発技術部
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柴原 正典
Tdk(株)開発研究所
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渋谷 義一
信州大学工学部情報工学科
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竹中 洋史
信州大学工学部
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窪野 智浩
信州大学工学部情報工学科
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鈴木 一隆
信州大学工学部情報工学科
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直江 正彦
東工大・工
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直江 正彦
東京工業大学
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菊地 良巳
(株)三協精機製作所開発技術部
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八幡 亮一
(株)三協精機製作所開発技術部
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有賀 英吉
(株)三協精機製作所開発技術部
-
藤田 雄二
(株)三協精機製作所開発技術部
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宮尾 卓二
信州大学工学部
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嘉藤 勇
信州大学工学部
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前川 智昭
信州大学工学部
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奥本 孝明
信州大学
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劉 小晰
蘭州大学磁性材料研究所
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菊池 良巳
多摩川精機
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張 群
信州大学工学部
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奥本 孝明
信州大学工学部
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小田切 頼広
信州大学工学部
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榮岩 哲二
信州大学工学部
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峯村 祐子
信州大学工学部
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峰村 祐子
信州大学工学部
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武藤 吉紀
信州大学工学部情報工学科
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田島 滋一
信州大学工学部
著作論文
- 光磁気磁界変調記録における記録マークの解析
- Bi添加バリウムフェライト薄膜の特性
- 有限要素法を用いた磁気ヘッド形状効果のシミュレーション
- 高飽和磁化Fe_Co_薄膜に及ぼすCo下地層効果
- Magnetic and Crystallographic Properties of SmCo Films
- 六方晶フェライトドットアレイの形成及びその磁気特性(薄膜プロセス・材料, 一般)
- 垂直磁気異方性を有するSm-Co, Nd-Fe-B薄膜の形成とその特性(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展)
- FePt薄膜に対するAl_2O_3添加効果(磁気記録)
- Sm-Co/Cu薄膜の結晶構造及び磁気特性の層厚依存性(磁気記録)
- バリウムフェライトスパッタ薄膜の微細構造と磁気特性に及ぼす熱処理時間の影響 (磁気記録媒体)
- Sm-Co/Cr薄膜の高保磁力化
- SmCo/Cr薄膜の磁気特性のSm組成比依存性と電力依存性
- SmCo/Cr薄膜の磁気特性のSm組成比依存性と電力依存性
- SmCo/Cr薄膜の磁気特性のSm組成比依存性と電力依存性
- SmCo/Cr薄膜の磁気特性のSm組成比依存性と電力依存性
- 垂直磁気異方性を有するSm-Co/Cu薄膜の作製と磁気特性(薄膜)
- 結晶化Sm-Co層の磁気特性に及ぼすCr下地層の影響(薄膜)
- 高密度垂直磁気記録媒体用NdFeB/W薄膜におけるW下地層の効果
- 磁気ディスク用Ba及びSrフェライト薄膜の作製
- DCスパッタ法によるFe-Pb薄膜の作製
- 高密度磁気記録媒体用NdFeB/W薄膜のB組成依存性(磁気記録媒体)
- SrM薄膜に対するCr添加効果と記録再生特性
- SrM薄膜における磁気特性のターゲット組成依存性
- バリウムフェライト薄膜の結晶性と磁気特性のターゲット組成比依存性
- 垂直磁気記録媒体用NdFeB薄膜におけるCu添加の効果(磁気記録)
- Sm-Co/Cr薄膜における磁気特性のSm-Co層の作製条件依存性
- SmCo系合金薄膜の磁気特性
- 有限要素法によるMIGヘッドの非線形磁界解析
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- SmCo/Cr薄膜の磁気特性と結晶構造に及ぼすCr下地層作製条件の効果
- SmCo/Cr薄膜の磁気特性と結晶構造に及ぼすCr下地層作製条件の効果
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- Fe-Ti-N合金薄膜の軟磁気特性
- スパッタ法によるNiFe/FeMn反強磁性結合薄膜の多層化の考察 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- SmCo/Cr薄膜の特性に対するCr下地層の効果 (磁気記録媒体)
- 対向ターゲット式スパッタリング法の放電特性と堆積薄膜特性
- 高密度磁気記録用バリウムフェライト薄膜媒体の開発動向と将来