北本 仁孝 | 東京工業大学

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概要

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• 同名の論文著者
• 東京工業大学の論文著者

関連著者

• 北本 仁孝

  東京工業大学

• 北本 仁孝

  東京工大 大学院総合理工学研究科

• 北本 仁孝

  東工大

• 北本 仁孝

  東工大総理工

• 北本 仁孝

  東京工業大学・大学院総合理工学研究科・物質科学創造専攻

• 北本 仁孝

  Department Of Innovative And Engineered Materials Tokyo Institute Of Technology

• 北本 仁孝

  東工大 電子物理工

• 山崎 陽太郎

  東京工業大学大学院総合理工学研究科物質科学創造専攻

• 北本 仁孝

  東京工業大学大学院 総合理工学研究科

• 阿部 正紀

  東京工業大学 応用セラミックス研究所

• Kitamoto Yoshitaka

  R&d Center Digital Equipment Corporation Japan

• Kitamoto Yoshitaka

  Department Of Innovative And Engineered Materials Interdisciplinary Graduate School Of Science And E

• 谷山 智康

  東工大応セラ研

• 阿部 正紀

  東京工業大学工学部

• 山崎 陽太郎

  東京工業大学大学院 総合理工学研究科

• 谷山 智康

  東工大総理工

• 山崎 陽太郎

  東京工業大学 大学院総合理工学研究科物質科学創造専攻

• 山崎 陽太郎

  東京工業大学

• 山崎 陽太郎

  東京工業大学・大学院総合理工学研究科・物質科学創造専攻

• 浜屋 宏平

  九大シス情報:jstさきがけ:東大生産研:東大ナノ量子機構

• 山崎 陽太郎

  東工大

• 宗片 比呂夫

  東工大像情報

• 宗片 比呂夫

  東京工業大学理工学研究科附属像情報工学研究施設

• 宗片 比呂夫

  東工大・像情報

• 佐久間 洋志

  東京工業大学総合理工学研究科

• 兵屋 宏平

  東大生産研:東大ナノ量子機構:九大シス情報:jstさきがけ

• 濱屋 宏平

  東工大総理工

• 寒竹 秀介

  Department Of Physical Electronics Tokyo Institute Of Technology

• 岩本 多加志

  九大先導研

• 宗片 比呂夫

  東大大工

• 岩本 多加志

  北陸先端大材料

• 山崎 陽太郎

  東工大総理工

• 張 福春

  東京工業大学工学部電子物理工学科

• 寒竹 秀介

  東京工業大学工学部電子物理工学科

• 宗片 比呂夫

  東京工業大学

• 西村 一寛

  東京工業大学理工学研究科電子物理工学専攻:(現)豊橋技術科学大学工学部電気・電子工学系

• 山元 洋

  明治大学理工学部

• 西尾 博明

  明治大学工学部

• 城後 新

  東工大

• 城後 新

  東京工業大学総合理工学研究科

• 白崎 文雄

  東工大

• 守谷 頼

  東工大像情報

• 谷山 智康

  東工大 総理工

• 白崎 文雄

  東京工業大学工学部電子物理工学科

• 出口 博之

  九工大工

• 美藤 正樹

  九工大工

• 小森田 裕貴

  九工大工

• 高木 精志

  九工大工

• 谷山 智康

  東京工業大学

• 並木 禎尚

  東京慈恵会医科大学臨床医学研究所

• 鶴田 英樹

  九工大工

• 高木 精志

  九州工業大学工学部物理教室

• 山元 洋

  明治大学工学部

• 近田 司

  高温高圧流体技術研究所

• 出口 博之

  九州工業大学

• 南 瑠美子

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 加藤 俊作

  高温高圧流体技術研究所

• 佐久間 洋志

  宇都宮大学大学院電気電子システム工学専攻

• 高谷 慎一

  東京工業大学工学部電子物理工学科

• 直江 正彦

  東京工業大学

• 中山 義康

  東京工業大学工学部

• 渕上 輝顕

  東京工業大学大学院総合理工学研究科物質科学創造専攻

• Mitome Masanori

  National Institute Of Materials Science

• DJAYAPRAWIRA David

  Process Technology Department, Electron Device Equipment Division, Canon ANELVA Corporation

• 加藤 俊作

  高温高圧流体技術研

• Choi Young-suk

  Process Technology Department Electron Device Equipment Division Canon Anelva Corporation

• 中山 義康

  東京工業大学工学部電子物理工学科

• Takeuchi Takashi

  Department Of Chemical Engineering Science Yokohama National University

• Nagamine Yoshinori

  Process Development Center Canon Anelva Corporation

• 出口 博之

  Faculty Of Science And Engineering Doshisha University

• 中川 茂樹

  東京工業大学

• 山元 洋

  明大工

• 佐久間 洋志

  宇都宮大学

• 谷山 智康

  東工大応セラ研:jstさきがけ

• 西尾 博明

  明治大学理工学部

• 藤原 直人

  東工大

• 松本 圭司

  東京工業大学工学部

• 直江 正彦

  東京工業大学 電子物理工学専攻

• 伊藤 宏樹

  東京工業大学総合理工学研究科

• 佐久間 洋志

  東工大

• 西尾 博明

  明大

• 張 敏娟

  東京工業大学工学部

• 矢島 弘士

  東京工業大学工学部

• 加藤 裕明

  東工大総理工

• 浜屋 宏平

  東工大総理工

• Hamaya Kohei

  Department Of Electronics Kyushu University

• 戸嶋 直樹

  山口東京理科大

• 小原 義久

  東京工業大学工学部電子物理工学科

• KITAMOTO Yoshitaka

  Department of Innovative and Engineered Materials, Tokyo Institute of Technology

• 中川 勝

  東北大学多元物質科学研究所

• 河村 亮

  東京工業大学大学院総合理工学研究科物質科学創造専攻

• 北本 仁孝

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• Munekata Hiro

  Imaging Science And Engineering Laboratory Tokyo Institute Of Technology

• Toshima Naoki

  Liquid Crystal Institute And The Graduate School Of Science And Engineering Tokyo University Of Scie

• 情野 進

  東京工業大学工学部

• 山元 洋

  明大 理工

• Kitamoto Yoshitaka

  Tokyo Inst. Of Technol. Yokohama Jpn

• Kato Hiroaki

  Department Of Agricultural Chemistry Yamagata University

• 戸嶋 直樹

  山口東京理科大学工学部応用化学科

• Taniyama Tomoyasu

  Materials And Structures Laboratory Tokyo Institute Of Technology

• Tsunekawa Koji

  Process Development Center Canon Anelva Corporation

• 中川 茂樹

  東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻

• 石井 清

  宇都宮大学工学科機能創成部

• 佐藤 勲

  東京工業大学

• 永峰 佳紀

  キャノンアネルバ

• 恒川 孝二

  キャノンアネルバ

• 永峰 佳紀

  キヤノンアネルバ株式会社

• 恒川 孝二

  キヤノンアネルバ株式会社

• 和田 詠史

  東工大応セラ研

• 岩本 多加志

  山口東理大工

• 戸嶋 直樹

  山口東京理科大学・基礎工学部

• 星 陽一

  東京工芸大学工学部

• 近藤 剛

  東京工業大学

• 小泉 岳

  東京工業大学

• 野村 健太

  東京工業大学

• Funakubo H

  Dep. Of Innovative And Engineered Materials Tokyo Inst. Of Technol.

• 何 浄沙

  東京工業大学・大学院総合理工学研究科・物質科学創造専攻

• 何 浄沙

  埼玉大学大学院理工学研究科

• 直江 正彦

  東京工業大学大学院 理工学研究科 電子物理工学専攻

• 直江 正彦

  東京工業大学工学部

• 直江 正彦

  Dept. Of Physical Electronics Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology

• 直江 正彦

  東大

• 新村 嘉朗

  東京工業大学・工学部・電気電子光学科

• TAKEUCHI Takashi

  Department of Pediatrics, Wakayama Medical University

• 山本 洋

  明治大学工学部

• 竹内 隆

  東京工業大学

• 源関 聡

  東京工業大学

• ダビット ジャヤプラウィラ

  キヤノンアネルバ

• Djayaprawira David

  Canon Anelva Corp. Kanagawa Jpn

• 星 陽一

  東京工芸大学工学部システム情報学科

• 舟窪 浩

  東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質科学創造専攻

• 石井 清

  宇都宮大

• HAMAYA Kohei

  Department of Electronics, Kyushu University

• 山本 洋

  明治大学理工学部

• 小田原 修

  東京工業大学

• Tsunekawa Koji

  Canon Anelva Corporation Magnetic Thin Film Development Division Process Development Center General

• 藤原 直人

  東工大総理工

• Hamaya Kohei

  Department Of Innovative And Engineered Materials Tokyo Institute Of Technology

• 兵屋 宏平

  東工大総理工

• 和田 詠史

  東工大総理工

• 大岩 顕

  科技団さきがけ

• 宗方 比呂夫

  東工大像情報

• 佐久間 洋志

  東工大総理工

• 直江 昌武

  東京工業大学大学院総合理工学研究科物質科学創造専攻

• 浜屋 宏平

  東京工業大学大学院総合理工学研究科物質科学創造専攻

• 中川 勝

  国立大学法人東北大学多元物質科学研究所

• 山本 光基

  東京工業大学

• 末木 謙吾

  東工大

• 末木 謙吾

  東京工業大学

• 金子 正彦

  東京工業大学

• KATO Hiroaki

  Department of Urology

• [ハイ]島 俊一

  東京工業大学工学部

• 直江 正彦

  東工大・工

• 戸嶋 直樹

  山口東理大・液晶研

• 南 瑠美子

  東工大

• 大岩 顕

  東京大学工学系研究科

• 岩本 多加志

  北大創成

• 岩本 多加志

  東京工業大学総理工

• TANIYAMA Tomoyasu

  Materials and Structures Laboratory, Tokyo Institute of Technology

• MUNEKATA Hiro

  Imaging Science and Engineering Laboratory, Tokyo Institute of Technology

• 木村 健一郎

  東京工業大学・大学院総合理工学研究科・物質科学創造専攻

• 清田 吾朗

  東工大

• 舟窪 浩

  東工大院総合理工学研究科

• TSUNEKAWA Koji

  Process Technology Department, Electron Device Equipment Division, Canon ANELVA Corporation

• CHOI Young-Suk

  Process Technology Department, Electron Device Equipment Division, Canon ANELVA Corporation

• NAGAMINE Yoshinori

  Process Technology Department, Electron Device Equipment Division, Canon ANELVA Corporation

• 星 陽一

  東京工芸大学工学部システム電子情報学科

• 松宮 寛昭

  東京工業大学工学部

• 北本 仁孝

  東京工業大学大学院総合理工学研究科物質科学創造専攻

• Genseki Akira

  Center For Advanced Materials Analysis Tokyo Institute Of Technology

• KANTAKE Shuusuke

  Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology

• 金 名鎬

  東京工業大学電子物理工学科

• HOSHI Yoichi

  Department of Electronic Engineering, Tokyo Institute of Polytechnics

• Munekata Hiro

  Tokyo Inst. Of Technol. Yokohama Jpn

• 北本 仁孝

  Department Of Innovative And Engineered Materials Interdisciplinary Graduate School Of Science And E

• Tsunekawa Koji

  Canon Anelva Corp. Kanagawa Jpn

• Nagamine Yoshinori

  Process Technology Department Electron Device Equipment Division Canon Anelva Corporation

• Kitamoto Yoshitaka

  Tokyo Institute Of Technology

• 新村 嘉朗

  東京工業大学工学部電子物理工学科

• 鍬崎 尚哉

  東京工業大学工学部電子物理工学科

• 島 俊一

  東京工業大学工学部

• 原 正彦

  東京工業大学/理化学研究所

• Kaneko Masahiko

  Sony Corporation:tokyo Institute Of Technology

• 隅出 真

  東京工業大学工学部電子物理工学科

• Sueki Kengo

  Tokyo Institute of Technology

• Takeuchi Takashi

  Department Of Innovative And Engineered Materials Interdisciplinary Graduate School Of Science And E

• Kato Hiroaki

  Department Of Innovative And Engineered Materials Tokyo Institute Of Technology

• 星 陽一

  東京工芸大学 工学部 システム情報学科

• 和田 裕之

  東京工業大学大学院 総合理工学研究科

• 小田原 修

  東京工業大学大学院 総合理工学研究科

• 加賀谷 俊介

  東京工業大学大学院 総合理工学研究科

• 江原 祥隆

  東京工業大学大学院 総合理工学研究科

• 原 正彦

  東京工業大学大学院 総合理工学研究科

• Masai Taku

  Department of Innovative and Engineered Materials, Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, Yokohama 226-8502, Japan

• Tsunekawa Koji

  Department of Innovative and Engineered Materials, Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta-cho, Midori-ku, Yokohama 226-8502, Japan

• Choi Young-suk

  Process Technology Department, Electron Device Equipment Division, Canon ANELVA Corporation, 5-8-1 Yotsuya, Fuchu, Tokyo 183-8508, Japan

• Nagamine Yoshinori

  Process Technology Department, Electron Device Equipment Division, Canon ANELVA Corporation, 5-8-1 Yotsuya, Fuchu, Tokyo 183-8508, Japan

• 中川 勝

  東北大学

• Genseki Akira

  Center for Advanced Materials Analysis, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 O-okayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8550, Japan

• Djayaprawira David

  Process Technology Department, Electron Device Equipment Division, Canon ANELVA Corporation, 5-8-1 Yotsuya, Fuchu, Tokyo 183-8508, Japan

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著作論文

• バイオ医療応用のための水溶性高分子で保護したFe-Ptナノ粒子の合成
• X線回折およびメスバウアー分光によるFe-Ptナノ粒子の原子配列評価
• 25aQJ-7 磁性ナノ粒子FePtにおける静水圧力印加による磁気異方性操作(微少磁性(材料,構造),領域3,磁性,磁気共鳴)
• 28aPS-100 FePt磁性ナノ粒子のESR測定による磁気異方性評価(28aPS 領域3ポスターセッション(スピントロニクス・フラストレーション系・実験技術),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 28aPS-98 FePt磁性ナノ粒子の高圧力下磁気測定・構造解析(28aPS 領域3ポスターセッション(スピントロニクス・フラストレーション系・実験技術),領域3(磁性,磁気共鳴))
• (Ga,Mn)Asの磁区構造および磁気輸送特性
• FePtナノ粒子粉末の強磁場トルク測定
• FePt微粒子および集積膜の磁気特性(第7回アジア情報記録技術シンポジウム)
• FePt微粒子および集積膜の磁気特性
• 溶液プロセスにより作製したFePt微粒子の磁気緩和
• 溶液プロセスによるFePtナノ粒子と集積薄膜の作製(垂直記録および一般)
• CoFeB/MgO/CoFeB磁気トンネル接合におけるアモルファスCoFeBの結晶化過程
• 化学合成による部分的規則化Fe-Pt微粒子の構造と磁性
• 化学合成による部分的規則化Fe-Pt微粒子の構造と磁性(高密度磁気ストレージ材料 : 開発の現状・未来と解析技術)
• Ion Irradiation Control of Ferromagnetism in (Ga, Mn)As
• Co/Cu(Fe)接合細線におけるスピン注入
• 27aPS-33 Co/Cu(Fe)接合細線におけるスピン注入
• 12pWB-8 (Ga, Mn) As 薄膜の交流磁化率と磁気異方性(化合物磁性, 磁性半導体・絶縁体, 実験技術開発, 磁気共鳴一般, 磁性一般, 領域 3)
• 12aPS-34 Fe 細線/GaAs 界面でのスピン偏極電子伝導(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
• 27aYA-4 (Ga,Mn)As薄膜における[110]一軸磁気異方性とキャリア濃度の関係(磁性半導体)(領域4)
• 27aPS-41 (Ga,Mn)As薄膜におけるアニール効果の磁気伝導評価(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
• (Ga, Mn)As薄膜における磁気異方性のアニール効果
• (Ga, Mn)As薄膜における面内磁気抵抗の温度依存性
• 21pPSA-16 (Ga, Mn)As 細線の磁気抵抗と磁気異方性
• 溶液プロセスによるFePtナノ粒子と集積薄膜の作製
• 強磁性FePtナノ微粒子の逆ミセル法による作製
• 27pPSA-21 ダブルペロブスカイト型酸化物Sr_2FeMoO_6のBサイトイオン配列と磁性
• 27aPS-1 多結晶La_Sr_xMnO_3薄膜における磁場伝導のアニール効果 II
• 24pPSB-23 Fe_3O_4-γfe_2O_3薄膜の磁気伝導とメスバウアー分光
• 24pPSB-21 多結晶La_Sr_xMnO_3薄膜における磁気伝導のアニール効果
• 反応生成物をバリアとしたLa_Sr_XMnO_3薄膜の低磁場磁気抵抗効果
• Arイオンミリング法によるLSMO薄膜の微細加工
• Fe-Ptナノ粒子合成における界面活性剤の効果
• L1_0相Fe-Ni-Ptの製膜と磁気特性(磁気記録)
• 大学の地域交流活動 : 開かれた大学とは
• 新技術・超音波励起フェライトメッキによるフェライトカプセル・ポリマー球の作製
• マイクロ波照射ポリオール還元法により合成したFe-Ptナノ粒子の磁気異方性
• 超音波励起フェライトメッキ法によるNiZnフェライト膜の作製
• 超音波励起フェライトメッキ法による強磁性膜の作製
• 磁気記録媒体用Coフェライトめっき薄膜の作製
• 垂直磁気異方性Coフェライト膜の低温作製(
• 垂直磁気異方性Coフェライト膜の低温作製(
• Magnetic Properties of L1_0 Fe-Ni-Pt Films for Heat Assisted Magnetic Recording(Selected papers from MORIS 2006 Workshop on Thermal & Optical Magnetic Materials and Devices)
• 21pPSB-66 高分子保護されたFePtナノ粒子の低温での特異な磁気特性(領域3ポスターセッション(フラストレーション,磁気共鳴,実験技術,微小領域),領域3,磁性,磁気共鳴)
• 12aPS-26 コバルトナノウィスカーの作製と磁気的評価(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
• 室温フェライトめっきによるマグネタイト膜の堆積速度
• フェライトめっき法によるマグネタイト膜の室温合成
• フェライトめっき法によるマグネタイト膜の室温合成
• Fe_3O_4電析めっきの浴組成の影響
• FePt/SiO_2複合型磁性ナノ粒子の作製
• FePt/SiO2複合型磁性ナノ粒子の作製
• FePt/酸化鉄コアシェル・ナノ粒子の作製
• Fe-Coスパッタ薄膜へのカーボン添加効果
• スパッタ法・めっき法によるフェライト薄膜の堆積技術と構造・物性の比較
• Influence of Chemical Composition of CoFeB on Tunneling Magnetoresistance and Microstructure in Polycrystalline CoFeB/MgO/CoFeB Magnetic Tunnel Junctions
• Coフェライトめっき法による垂直磁気記録媒体の開発
• Co-フェライト垂直磁気記録媒体のスピン・スプレー法による作製とその磁気記録特性
• フェライトメッキ膜の磁気記録への応用
• Ni/PVC, Fe/SiO_2, Co/SiO_2グラニュラー膜の磁気光学効果の増大
• グラニュラー磁性薄膜の磁気光学効果の測定と解析
• MR2000-12 スピンスプレーめっき法によるCoNiフェライト磁気記録媒体の作製
• CoNiフェライト垂直磁気薄膜の作製におけるめっき溶液条件の最適化
• マグネタイトめっき膜の磁気抵抗効果
• Coフェライト薄膜におけるNiの添加効果
• 極薄膜Co-Crスパッタ膜の結晶配向と磁気的挙動
• フェライトめっきによる酸化物磁性膜の作製とその応用
• フェライトメッキによる酸化物磁性膜の作製とその応用 ( 磁性薄膜, 一般)
• 液中レーザーアブレーションによるInPナノ粒子の作製
• Crystallization of Amorphous CoFeB Ferromagnetic Layers in CoFeB/MgO/CoFeB Magnetic Tunnel Junctions
• ナノシェル磁気カプセルを用いた磁気誘導ドラッグデリバリシステム
• Improvement in Resonant Frequency of Magnetic Domain Wall Displacement in Soft Magnetic Thin Films by Slit Patterning
• センチネルリンパ節生検用磁気センサの開発
• 磁気カプセルを用いた磁気誘導ドラッグデリバリーシステム
• Ion Irradiation Control of Ferromagnetism in (Ga,Mn)As
• Growth of Fe-Pt Magnetic Nanoparticles on Silica Particles Modified with Organic Molecules (SELECTED TOPICS IN APPLIED PHYSICS : Nano Electronics and Devices : Characterization and Control of Nano Surfaces and Interfaces)
• Influence of Chemical Composition of CoFeB on Tunneling Magnetoresistance and Microstructure in Polycrystalline CoFeB/MgO/CoFeB Magnetic Tunnel Junctions
• 20. 超音波励起フェライトメッキによる酸化物磁性膜の作製とその応用
• 磁気カプセルを用いた磁気誘導ドラッグデリバリーシステム

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