西村 一寛 | 東京工業大学理工学研究科電子物理工学専攻:(現)豊橋技術科学大学工学部電気・電子工学系
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概要
関連著者
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西村 一寛
東京工業大学理工学研究科電子物理工学専攻:(現)豊橋技術科学大学工学部電気・電子工学系
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阿部 正紀
東京工業大学工学部
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阿部 正紀
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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東京工業大学
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北本 仁孝
東工大
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北本 仁孝
Department Of Innovative And Engineered Materials Tokyo Institute Of Technology
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北本 仁孝
東工大 電子物理工
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松下 伸広
東京工大 応用セラミックス研
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東京工業大学工学部電子物理工学科
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松下 伸広
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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松下 伸広
東工大
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松下 伸広
東京工業大学
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小原 義久
東工大院
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畑中 真二
東京工業大学大学院 電子物理工学専攻
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三浦 友博
東工大
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安部 正紀
東工大
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畑中 真二
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
著作論文
- 室温の水溶液中で合成したM_xFe_O_4超微粒子の組成と磁気特性 : 酸化物・微粒子
- フェライトめっき反応を応用した超微粒子の5-25℃合成
- 低温(25-80℃)フェライトめっきによるスピネル型((Fe, M)_3O_4, M=Fe, Co, Ni, and Zn) 磁性膜の作製
- 低温(25-80℃)フェライトめっきによるスピネル型((Fe,M)_3O_4,M=Fe,Co,Ni,and Zn)磁性膜の作製
- 室温フェライトめっきによるマグネタイト膜の堆積速度
- フェライトめっき法によるマグネタイト膜の室温合成
- フェライトめっき法によるマグネタイト膜の室温合成
- フェライトめっき法によるマグネタイト膜の室温
- Fe_3O_4電析めっきの浴組成の影響