石井 清 | 宇都宮大
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概要
関連著者
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石井 清
宇都宮大
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石井 清
宇都宮大学工学科機能創成部
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佐久間 洋志
宇都宮大学
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濱欠 裕貴
宇都宮大学
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佐久間 洋志
東京工業大学総合理工学研究科
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佐久間 洋志
宇都宮大学大学院電気電子システム工学専攻
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川津 雅巳
宇都宮大
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石井 清
宇都宮大学
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青島 光
宇都宮大
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大庭 卓也
帝京大理工
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大庭 卓也
帝京大学理工学部
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若色 将克
宇都宮大
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中 智隆
宇都宮大
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天野 春日
宇都宮大学 工学部 電気電子工学科
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南田 宏典
宇都宮大学工学部電気電子工学科
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大庭 卓也
Department Of Materials Science Interdisciplinary Faculty Of Science And Engineering Shimane Univers
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大庭 卓也
島根大学総合理工学部
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南田 宏典
宇都宮大
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天野 春日
宇都宮大
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大庭 卓也
帝京大・理工
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谷山 智康
東工大応セラ研
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原 徹
National Institute For Material Science
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三藤 士郎
宇都宮大学
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北本 仁孝
東工大
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山崎 陽太郎
東工大
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渡辺 征一
宇都宮大
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北本 仁孝
東工大総理工
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北本 仁孝
東京工業大学
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山室 佐益
東北大
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直江 正彦
東工大
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石川 雅之
宇都宮大学
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原 徹
帝京大学理工学部
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直江 正彦
東工大 工
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土井 広和
宇都宮大
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里見 太郎
宇都宮大
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高橋 治郎
宇都宮大学工学部
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小林 勝
宇都宮大学工学部
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星 陽一
東工大
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山中 俊一
東工大
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北本 仁孝
東京工大 大学院総合理工学研究科
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北本 仁孝
東京工業大学・大学院総合理工学研究科・物質科学創造専攻
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谷山 智康
東工大 総理工
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川津 雅巳
宇都宮大学工学部電気電子工学科
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山崎 陽太郎
東京工業大学大学院総合理工学研究科物質科学創造専攻
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石井 清
宇都宮大学工学部
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Kitamoto Yoshitaka
R&d Center Digital Equipment Corporation Japan
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Kitamoto Yoshitaka
Department Of Innovative And Engineered Materials Interdisciplinary Graduate School Of Science And E
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西坂 豊
宇都宮大学 工学部 電気電子工学科
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北本 仁孝
東京工業大学大学院 総合理工学研究科
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山崎 陽太郎
東京工業大学大学院 総合理工学研究科
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Kitamoto Yoshitaka
Department of Innovative and Engineered Materials, Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta-cho, Midori-ku, Yokohama 226-8502, Japan
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Kitamoto Yoshitaka
Department of Innovative and Engineered Materials, Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, Japan
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谷山 智康
東工大
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北本 仁孝
Department of Innovative and Engineered Materials, Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering,
著作論文
- ガスフロースパッタ法におけるFeナノ粒子のサイズ制御
- X線回折およびメスバウアー分光によるFe-Ptナノ粒子の原子配列評価
- ガスフロースパッタ法によるCo-Pt/Pt垂直磁化膜の作製
- ガスフロースパッタ法によるFeナノ磁性粉の作製
- 反応性ガスフロースパッタ法による酸化鉄薄膜の構造
- 磁性クラスター分散膜における磁気的相互作用とGMR
- 粒子密度の異なるFe/Agグラニュラー膜の磁気的性質
- GFS法におけるCo薄膜の成長温度と構造-TEMによる微細構造解析-
- クラスター堆積法によるFe/Agグラニュラー膜
- 多結晶hcp-Co膜の作製
- スパッタ型Feクラスター源の改良
- NiFe超微粒子とAg蒸気の交互堆積
- ガスフロースパッタ法による超微粒子分散膜の作製
- ガスフロースパッタ法によるCo微粒子分散Cu膜
- 4)磁気ヘッド用パーマロイ薄膜作製における各種スパッター法の適用(録画研究会(第43回))
- 完全熱化条件下のスパッタ成膜 : Co膜について
- ガスフロースパッタ法によるCo膜成長の基礎特性
- GFS法により1Torrレンジでスパッタ成膜したCu膜の電気抵抗