MR2000-12 スピンスプレーめっき法によるCoNiフェライト磁気記録媒体の作製
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概要
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スピンスプレーフェライトめっき法でCoNiフェライト垂直磁気記録薄膜を作製し, 垂直保磁力H_<c⊥>と角型比(M_r/M_s)_⊥を向上させるためにめっき溶液条件を調査した.膜の堆積速度を最適化するほかに, 酸化剤濃度の調節で膜中のFe^<2+>イオンとFe^<3+>イオンのモル比率を最適化し, また, 緩衝剤CH_3COONH_4の濃度変化で酸化剤のpHを最適化し, その結果, 膜のH_<c⊥>と(M_r/M_s)_⊥がそれぞれ3200Oeと0.6になった.媒体の再生出力波形はシングルパルスから垂直磁気記録媒体特有のダイパルス状になって, 再生出力特性も改善された.
- 2000-07-07
著者
-
北本 仁孝
東工大
-
北本 仁孝
東京工業大学
-
阿部 正紀
東京工業大学 応用セラミックス研究所
-
北本 仁孝
Department Of Innovative And Engineered Materials Tokyo Institute Of Technology
-
北本 仁孝
東工大 電子物理工
-
張 福春
東京工業大学工学部電子物理工学科
-
阿部 正紀
東京工業大学
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