2)垂直磁気異方性Coフェライト膜の作製(<100℃)(画像情報記録研究会)
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概要
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- 1998-03-20
著者
-
北本 仁孝
東工大
-
阿部 正紀
東工大
-
北本 仁孝
Department Of Innovative And Engineered Materials Tokyo Institute Of Technology
-
北本 仁孝
東工大 電子物理工
-
白崎 文雄
東工大
-
高谷 慎一
東京工業大学工学部電子物理工学科
-
寒竹 秀介
Department Of Physical Electronics Tokyo Institute Of Technology
-
寒竹 秀介
東工大
-
高谷 慎一
東工大
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