NiZnフェライト膜の高堆積速度化と伝送損失特性
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概要
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- 2004-09-21
著者
-
阿部 正紀
東工大
-
阿部 正紀
東京工業大学工学部
-
松下 伸広
東京工業大学理工学研究科
-
多田 大
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
阿部 正紀
東京工業大学 応用セラミックス研究所
-
松下 伸広
東京工大 応用セラミックス研
-
松下 伸広
東京工業大学 応用セラミックス研究所
-
阿部 達宣
東京工業大学大学院 電子物理工学専攻
-
宮坂 仁
東京工業大学大学院 電子物理工学専攻
-
松下 伸広
東京工業大学
-
宮坂 仁
東京工業大学 理工学研究科
-
阿部 正紀
東京工業大学大学院理工学研究科
-
阿部 正紀
東京工業大学
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