高周波用フェライトめっき膜
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概要
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- 2010-06-01
著者
-
佐藤 敏郎
信州大学工学部
-
近藤 幸一
NECトーキン株式会社
-
吉田 栄吉
NECトーキン株式会社
-
阿部 正紀
東工大
-
阿部 正紀
東京工業大学工学部
-
松下 伸広
東京工業大学理工学研究科
-
岡田 清
東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻
-
近藤 幸一
NEC トーキン(株)
-
吉田 栄吉
NEC トーキン(株)
-
佐藤 敏郎
信州大学 工学部 スピンデバイステクノロジーセンター
-
阿部 正紀
東京工業大学 応用セラミックス研究所
-
岡田 清
東京工業大学
-
島田 寛
東北大
-
松下 伸広
東京工大 応用セラミックス研
-
松下 伸広
東京工業大学 応用セラミックス研究所
-
岡田 清
東京工業大学 応用セラミックス研究所
-
吉田 栄吉
Necトーキン株式会社ファンクショナルデバイス事業本部emcデバイス事業部
-
松下 伸広
東京工業大学
-
阿部 正紀
東京工業大学大学院理工学研究科
-
岡田 清
東京工大 応用セラミックス研
-
岡田 清
東工大院総理工:東工大応セラ研
-
吉田 栄吉
Necトーキン
-
近藤 幸一
Necトーキン
-
阿部 正紀
東京工業大学
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