近藤 幸一 | Necトーキン
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概要
関連著者
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近藤 幸一
NEC トーキン(株)
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近藤 幸一
Necトーキン
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近藤 幸一
NECトーキン株式会社
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吉田 栄吉
Necトーキン
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吉田 栄吉
Necトーキン株式会社ファンクショナルデバイス事業本部emcデバイス事業部
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吉田 栄吉
NECトーキン株式会社
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吉田 栄吉
NEC トーキン(株)
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小野 裕司
Necトーキン株式会社 研究開発本部
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小野 裕司
Necトーキン株式会社ファンクショナルデバイス事業本部emcデバイス事業部技術部
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小野 裕司
Necトーキン
著作論文
- EBG構造を形成した電源/グランド層へのノイズ抑制シート適用による不要電磁波伝搬抑制効果の評価(対策/一般)
- B-4-30 PCBの電源層間への高透磁率シート挿入による層間共振と放射の抑制(B-4. 環境電磁工学,一般セッション)
- Ni-Zn-Coフェライトめっき薄膜のFMR解析
- 高周波用フェライトめっき膜
- Ni-Znフェライトのバルクから薄膜への展開
- 「バスタフェリックス_[○!R]」 : フェライトめっき薄膜を用いたGHz伝導ノイズ抑制体
- ポリイミドシート上にめっきしたフェライト薄膜のGHz伝導ノイズ吸収効果
- プリント配線板上に直接めっきしたフェライト薄膜の電磁ノイズ吸収効果
- フェライトめっきによるLSIパッケージ間隙部のシールド構造の検討
- フェライト薄膜によるQFPの電磁ノイズ抑制