高電気抵抗Fe(Co-Fe)-Hf-O磁性薄膜リアクトルの磁気特性とチップサイズの関係について
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概要
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The chipsize dependence of the magnetic characteristics of thin-film reactors using nanocrystalline Fe(Co-Fe)-Hf-O magnetic films with a high resistivity is discussed by using the finite element method in which a linear magnetization of the thin-film is assumed. The inductance of the reactors is proportional to the 3rd power of the reactorsize W. The loss-equivalent resistances of the film and the coil-conductor are proportional to the 4th and 2nd powers of W, respectovely. The iron loss of the reactors is very small, and show a high value of the quality factor at a high frequency region.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 1998-04-15
著者
-
佐藤 敏郎
信州大学工学部
-
山沢 清人
信州大学工学部
-
畑内 隆史
アルプス電気(株)
-
牧野 彰宏
アルプス電気(株)
-
畑内 隆史
アルプス電気
-
畑内 隆史
アルプス電気(株)中央研究所
-
牧野 彰宏
東北大学
-
牧野 彰宏
アルプス電気
-
大角 英俊
信州大学工学部
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