フェライトめっき膜のGHz応用と透磁率理論
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概要
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- 2007-07-23
著者
-
阿部 正紀
東工大
-
阿部 正紀
東京工業大学工学部
-
中川 貴
大阪大学大学院工学研究科
-
多田 大
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
阿部 正紀
東京工業大学 応用セラミックス研究所
-
中川 貴
東京工業大学理工学研究科
-
中川 貴
東京工業大学大学院理工学研究科
-
阿部 正紀
東京工業大学大学院理工学研究科
-
阿部 正紀
東京工業大学
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