酒巻 直人 | 東京工業大学
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概要
関連著者
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酒巻 直人
東京工業大学
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渡辺 正裕
東京工業大学大学院総合理工学研究科
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Watanabe M
Hiroshima Univ. Higashi‐hiroshima Jpn
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Watanabe Mahiko
Department Of Applied Physics And Chemistry Faculty Of Engineering Hiroshima University
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Watanabe M
Nec Corp. Ibaraki Jpn
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舟山 敏之
東京工業大学
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寺地 耐志
東京工業大学
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中川 茂樹
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
中川 茂樹
東京工業大学
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佐藤 厚
東京工業大学 電子物理工学専攻
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直江 正彦
東京工業大学 電子物理工学専攻
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直江 正彦
東京工業大学大学院 理工学研究科 電子物理工学専攻
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直江 正彦
東京工業大学工学部
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直江 正彦
Dept. Of Physical Electronics Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
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高山 和久
東京工業大学工学部
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佐藤 厚
東京工業大学大学院理工学研究科
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直江 正彦
東工大・工
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直江 正彦
東京工業大学
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酒巻 直人
東京工業大学工学部
著作論文
- Co-Cr垂直磁化膜の異常ホール効果測定と磁気特性の評価
- Si(111)上CdF_2-CaF_2二重障壁共鳴トンネルダイオードの室温微分負性抵抗特性
- ED2000-56 / SDM2000-56 Si(111)上CdF_2-CaF_2二重障壁共鳴トンネルダイオードの室温微分負性抵抗特性