垂直磁気記録媒体用六方晶フェライト薄膜の特性改善
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概要
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- 2001-09-01
著者
-
中川 茂樹
東工大
-
直江 正彦
東工大
-
直江 正彦
東京工業大学大学院 理工学研究科 電子物理工学専攻
-
直江 正彦
東京工業大学工学部
-
直江 正彦
Dept. Of Physical Electronics Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Technology
-
直江 正彦
東大
-
直江 正彦
東工大 工
-
松下 伸広
東京工大 応用セラミックス研
-
松下 伸広
東工大
-
直江 正彦
東工大・工
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院
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