高密度ハードディスク用バリウムフェライト薄膜
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概要
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本研究では対向ターゲット式スパッタリング装置(FTS)を用いて成膜したバリウムフェライト薄膜に熱処理を施し、成膜時の基板温度が熱処理後の結晶構造と磁気特性に与える影響について研究した。この結果、熱処理によって薄膜は結晶化し、これら結晶構造は成膜時の基板温度によって変化するとがわかった。さらに室温で成膜した薄膜の保磁力は500℃で成膜した薄膜の保磁力とほぼ等しく、約3kOeであった。また基板温度300℃で成膜した薄膜の保磁力は1.5kOe以下であった。成膜時の基板温度は熱処理後の結晶性ならびに磁気特性に影響を及ぼしており、室温で成膜した薄膜は高密度磁気記録媒体としてより優れた磁気特性をもつ可能性があることがわかった。
- 1996-03-01
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