XPS法による陽極酸化SiO_2/Si界面領域の組成解析
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概要
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- 電子情報通信学会エレクトロニクスソサイエティの論文
- 1992-12-01
著者
-
野村 滋
室蘭工業大学
-
北村 直子
(株)東芝
-
モスタファ カマル
室蘭工業大学電気電子工学科
-
南条 淳二
北見工業大学電子工学科
-
河原 善
室蘭工業大学電気電子工学科
-
野村 滋
室蘭工業大学電気電子工学科
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