低温赤外吸収による高濃度ドープシリコン基板中の酸素濃度評価 -エピタキシャルウエハーへの適用-
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概要
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- 1997-07-10
著者
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金田 寛
富士通 Ulsi開発部
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金田 寛
富士通(株)
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金田 寛
富士通プロセス開発部
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小飯塚 正明
富士通 Ulsi開発部
-
稲葉 三智子
富士通デバイス開発部
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小飯塚 正明
富士通デバイス開発部
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金田 寛
富士通デバイス開発部
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