3p-Q-10 シリコン中の不純物酸素析出に伴う不純物赤外及び遠赤外吸収スペクトルの変化
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 1989-09-12
著者
-
柳下 皓男
富士通研究所
-
金田 寛
富士通(株)
-
金田 寛
富士通プロセス開発部
-
村石 修一
日本電子株式会社応用研究センター
-
福島 茂
富士通研究所
-
小川 力
富士通プロセス開発部
-
北小路 俊右
富士通研究所
-
和田 邦彦
富士通プロセス開発部
-
小川 力
富士通(株)
-
村石 修一
日本電子
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