シリコン中の不純物酸素の赤外及び遠赤外吸収線の線幅の温度依存性

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1996-09-13

著者

• 金田 寛

  富士通 Ulsi開発部

• 金田 寛

  富士通(株)

• 金田 寛

  富士通プロセス開発部

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