イオン照射による6H-SiC(0001)Siの増速熱酸化膜(関西支部研究例会の講演要旨(平成9年度第2回))
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概要
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- 1997-08-20
著者
-
中田 俊武
(株)イオン工学研究所
-
梶山 健二
(株)イオン工学研究所
-
内田 正雄
松下電器産業(株)中央研究所
-
出口 正洋
松下電器産業(株)中央研究所
-
米田 知晃
(株)イオン工学研究所
-
渡辺 正則
(株)イオン工学研究所
-
井上 森雄
(株)イオン工学研究所
-
北畠 眞
松下電器産業(株)中央研究所
-
渡辺 正則
イオン工学研
-
渡邉 正則
(株)イオン工学研究所
-
出口 正洋
松下電器産業株式会社
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