渡辺 正則 | (株)イオン工学研究所

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概要

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• 高木 俊宜

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• 佐野 謙一

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• 高木 俊宜

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• 中田 俊武

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• 梶山 健二

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• 内田 正雄

  松下電器産業(株)中央研究所

• 出口 正洋

  松下電器産業(株)中央研究所

• Takada J

  Okayama Univ. Okayama Jpn

• 高田 純

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• 米田 知晃

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• 北畠 眞

  松下電器産業(株)中央研究所

• 出口 正洋

  松下電器産業株式会社

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著作論文

• クラスターイオンビーム法による光電子増倍有機薄膜の作製と評価
• イオンビーム法によるC_-セラミックスヘテロナノ構造の形成
• イオン照射による6H-SiC(0001)Siの増速熱酸化膜(関西支部研究例会の講演要旨(平成9年度第2回))
• 有機・無機ヘテロ界面における光電子増倍現象とその応用
• OME2000-55 有機薄膜光電子増倍素子のS/N比の検討
• テレビ用ブラウン管

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