クラスターイオンビーム法による光電子増倍有機薄膜の作製と評価
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概要
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有機光電子増倍薄膜を光センサーなどに利用するための知見を得る目的で、クラスターイオンビーム(ICB)法によりITO被膜付きガラス基板上にMe-PTC薄膜を作製し、これらの結晶構造や形態及び光電子増倍特性に及ぼす要因について調べた。X線回折によると298Kでは(102)を、また423Kでは(002)を成長面とし、ICBの加速電圧が300Vで結晶性が最良となる。ICB加速電圧を変化させることによって光電子増倍効果の最適動作温度を制御することができる。540nmの単色光による測定結果では、加速電圧200Vで形成した場合室温動作が実現し、298Kにおいて最大量子効率12, 500の光電子増倍効果が観察された。これらの結果に基づき光電子増倍効果のメカニズムおよび被膜の微視的構造との関係について検討した。
- 1998-07-06
著者
-
高木 俊宜
(株)イオン工学研究所
-
渡辺 正則
(株)イオン工学研究所
-
渡辺 正則
イオン工学研
-
渡邉 正則
(株)イオン工学研究所
-
佐野 謙一
(株)イオン工学研究所
-
高木 俊宜
(株)イオン工学センター
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