出口 正洋 | 松下電器産業(株)中央研究所
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概要
関連著者
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出口 正洋
松下電器産業(株)中央研究所
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出口 正洋
松下電器産業株式会社
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北畠 真
松下電器産業(株)中央研究所
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北畠 真
松下電器産業 先端技研
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北畠 真
松下電器産業 (株) 先行デバイス開発センター
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黒川 英雄
松下電器産業株式会社
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黒川 英雄
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黒川 英雄
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白鳥 哲也
松下電器産業株式会社
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白鳥 哲也
松下電器産業株式会社 デバイス・エンジニアリング開発センター
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大阪大学大学院工学研究科
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中田 俊武
(株)イオン工学研究所
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佐々木 孝友
大阪大学大学院 工学研究科
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伊藤 利道
大阪大 大学院工学研究科
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平木 昭夫
大阪大学工学研究科フロンティア研究センター
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北川 雅俊
松下電器産業
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梶山 健二
(株)イオン工学研究所
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大阪大学工学部
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内田 正雄
松下電器産業(株)中央研究所
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八田 章光
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
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小川 兼司
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
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江 南
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
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八木 弘雅
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
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栄森 信広
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
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伊藤 利道
大阪大学大学院工学研究科電気工学専攻
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平木 昭夫
高知工科大学電子・光システム工学科
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米田 知晃
(株)イオン工学研究所
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渡辺 正則
(株)イオン工学研究所
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井上 森雄
(株)イオン工学研究所
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北畠 眞
松下電器産業(株)中央研究所
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渡辺 正則
イオン工学研
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出口 正洋
中央研究所
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渡邉 正則
(株)イオン工学研究所
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北川 雅俊
松下電器産業株式会社
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平木 昭夫
大阪大学,高知工科大学電子・光システム工学科
著作論文
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- p形CVDダイヤモンド膜のピエゾ抵抗効果特性
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- イオン照射による6H-SiC(0001)Siの増速熱酸化膜(関西支部研究例会の講演要旨(平成9年度第2回))
- ナノ・ダイヤモンド分散液種付け処理によるCVDダイヤモンド膜の形成
- ナノ・ダイヤモンド分散液による種付け処理を用いたCVDダイヤモンド膜の形成