出口 正洋 | 松下電器産業株式会社
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概要
関連著者
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出口 正洋
松下電器産業(株)中央研究所
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出口 正洋
松下電器産業株式会社
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北畠 真
松下電器産業(株)中央研究所
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北畠 真
松下電器産業 先端技研
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北畠 真
松下電器産業 (株) 先行デバイス開発センター
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黒川 英雄
松下電器産業株式会社
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黒川 英雄
松下電器産業株式会社 デバイス・エンジニアリング開発センター
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黒川 英雄
松下電器産業
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白鳥 哲也
松下電器産業株式会社
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白鳥 哲也
松下電器産業株式会社 デバイス・エンジニアリング開発センター
著作論文
- 圧力センサー-半導体ダイヤモンド薄膜の歪み抵抗効果-
- ダイヤモンド粒子からのフィールドエミッション
- p形CVDダイヤモンド膜のピエゾ抵抗効果特性
- ダイヤモンド表面物性の評価・制御と電子エミッターへの応用
- p形CVDダイヤモンド膜のピエゾ抵抗効果特性
- p形CVDダイヤモンド膜のピエゾ抵抗効果特性
- イオン照射による6H-SiC(0001)Siの増速熱酸化膜(関西支部研究例会の講演要旨(平成9年度第2回))
- ナノ・ダイヤモンド分散液種付け処理によるCVDダイヤモンド膜の形成
- ナノ・ダイヤモンド分散液による種付け処理を用いたCVDダイヤモンド膜の形成