遷移金属(薄膜)-Si(基板)系における(埋もれた)界面の電子状態とその構造
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概要
著者
-
平井 正明
岡山大学自然科学研究科
-
日下 征彦
岡山大学自然科学研究科
-
藤井 達也
岡山大学・理学部・附属界面科学研究施設
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平井 正明
岡山大学・理学部・附属界面科学研究施設
-
日下 征彦
岡山大学・理学部・附属界面科学研究施設
-
岩見 基弘
岡山大学・理学部・附属界面科学研究施設
-
中村 初夫
大阪電気通信大学・工学部
-
岩見 基弘
岡山大理
-
中村 初夫
大阪電通大
-
岩見 基弘
岡大物理
-
中村 初夫
大阪電通大工
-
岩見 基弘
岡山大学・理学部
-
中村 初夫
大阪電気通信大学
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