中村 初夫 | 大阪電気通信大学

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概要

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関連著者

• 中村 初夫

  大阪電気通信大学・工学部

• 中村 初夫

  大阪電気通信大学

• 岩見 基弘

  岡山大理

• 中村 初夫

  大阪電通大

• 中村 初夫

  大阪電通大工

• 平井 正明

  岡山大学自然科学研究科

• 平井 正明

  岡山大学理学部界面科学研究室

• 日下 征彦

  岡山大学理学部界面科学研究室

• 日下 征彦

  岡山大学自然科学研究科

• 藤井 達也

  岡山大学・理学部・附属界面科学研究施設

• 平井 正明

  岡山大学・理学部・附属界面科学研究施設

• 日下 征彦

  岡山大学・理学部・附属界面科学研究施設

• 岩見 基弘

  岡山大学・理学部・附属界面科学研究施設

• 渡部 宏邦

  松下電器産業(株)

• 岩見 基弘

  岡大物理

• 岩見 基弘

  岡山大学理学部

• 河合 政夫

  (株) 島津製作所

• 副島 啓義

  (株) 島津製作所

• 日下 征彦

  岡山大学理学部

• 平井 正明

  岡山大学理学部

• 渡部 宏邦

  松下電器産業 (株)

• 岩見 基弘

  岡山大学・理学部

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著作論文

• 遷移金属(薄膜)-Si(基板)系における(埋もれた)界面の電子状態とその構造
• 軟X線分光法の薄膜・界面非破壊分析への新しい応用
• 軟X線分光法とシリコン化合物・薄膜系

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