岩見 基弘 | 岡山大学理学部

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概要

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  岡山大学理学部

• 岩見 基弘

  岡山大学理学部界面科学研究室

• 岩見 基弘

  岡山大理

• 平井 正明

  岡山大学理学部界面科学研究室

• 日下 征彦

  岡山大学理学部界面科学研究室

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  岡山大学理学部

• 平井 正明

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  岡大物理

• 平井 正明

  岡山大学自然科学研究科

• 日下 征彦

  岡山大学自然科学研究科

• 中村 初夫

  大阪電気通信大学・工学部

• 安 振連

  岡山大学自然科学研究科

• 木下 明将

  岡山大学理学部

• 川本 聡

  岡山大学理学部

• 斉藤 浩樹

  岡山大学理学部

• 渡部 宏邦

  松下電器産業(株)

• 服部 正

  日本電装(株)基礎研究所

• 城戸 義明

  立命館大理工

• 城戸 義明

  立命館大学理工学部物理科学科

• 星野 靖

  立命館大理工:神奈川大理

• 星野 靖

  神奈川大学情報

• 服部 正

  日本電装基礎研究所

• 松波 弘之

  京都大学工学部

• 山内 庄一

  日本電装基礎研究所

• 大島 久純

  日本電装基礎研究所

• 城戸 義明

  立命館大 理工

• 木下 明将

  産総研

• 芝原 健太郎

  京都大学工学部電気工学第二教室

• 服部 正

  日本電装 基礎研

• 河合 政夫

  (株) 島津製作所

• 副島 啓義

  (株) 島津製作所

• 芝原 健太郎

  京都大学工学部

• 岩見 基弘

  岡山大学理学部附属界面科学研究施設

• 渡部 宏邦

  松下電器産業 (株)

• 中村 初夫

  大阪電気通信大学

• 城戸 義明

  立命館大学理工学部

• 城戸 義明

  立命館大学理工

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著作論文

• Cu/3C-SiC接合系の界面評価
• 28p-S-10 モンテカルロシミュレーションを利用したシリサイド2層膜系の定量分析
• Si(100)2×1表面上のPd初期吸着過程
• 金属シリサイド/Si接合系の軟X線放出分光法SXESによる深さ方向非破壊分析
• 薄膜接合界面の非破壊分析の現状と展望
• 薄膜接合界面の非破壊分析の現状と展望
• シンクロトロン放射光を用いた半導体表面・界面の研究
• 軟X線分光法とシリコン化合物・薄膜系
• 軟X線分光法による表面層非破壊分析
• Si(111)表面上Auの初期反応過程

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