Zrに高濃度でイオン注入した窒素の挙動
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1995-09-20
著者
-
斎藤 和雄
名古屋工業技術研究所
-
丹羽 博昭
名工試
-
種村 誠太
名工試
-
中尾 節男
名古屋工業技術研究所
-
宮川 草児
名古屋工業技術研究所
-
池山 雅美
名古屋工業技術試験所
-
丹羽 博昭
名古屋工業技術研究所
-
種村 誠太
名古屋工業技術研究所
-
宮川 佳子
産業技術総合研究所中部センター基礎素材研究部門
-
中尾 節男
産業技術総合研究所中部センター基礎素材研究部門
-
宮川 佳子
名古屋工業技術研究所
-
宮川 草児
(独)産業技術総合研究所サステナブルマテリアル研究部門
-
斉藤 和雄
名古屋工技試
-
池山 雅美
(独)産業技術総合研究所サステナブルマテリアル研究部門
-
種村 誠太
名古屋工技研
-
池山 雅美
名古屋工業技術研究所
関連論文
- バンデグラーフ型加速装置の静特性(フレオンガス添加効果) : 応用原子核放射線
- 静電型強収斂電子レンズ(II) : 応用原子核放射線
- PLD法により作製したLaPbMnO系薄膜のキュリー温度
- イオンインプランテーションによりSi_3N_4セラミックス上に形成された導電層のクラックゲージ及び歪ゲージとしての利用に関する研究
- 新PBII法の開発による複雑形状部材表面の高耐久化--被加工物自体をプラズマ源として絶縁性材料にも成膜可能 (特集 最新DLC膜--環境対応・高機能化の技術・応用)
- プラズマイオン注入法の計算機シミュレーション
- PEGASUS : プラズマ材料プロセス・希薄気体統合シミュレーションツール
- 酸素、リン、カルシウムイオンを注入したチタン板の表面硬度の上昇 (第15回イオン注入表層処理シンポジウム)
- 重水素化チタン薄膜へのイオンビーム照射の影響
- 粒子励起X線分析法による窒化ケイ素中の微量不純物の定量
- 22aC-6 1.7MVタンデム加速器を用いたPDMS
- イオン注入による酸化物固体内への酸化物ナノ粒子の形成
- 29pZF-8 PDMS法による金クラスターの質量分布測定
- ガラス及びサファイアへのイオン注入による酸化物微粒子の生成
- 重イオンRBSによる合金の組成分析
- Zrに高濃度でイオン注入した窒素の挙動
- 振動加速度の測定によるターボ分子ポンプ軸受けの保全
- ファインセラミック原料粉体のPIXE分析
- 30a-F-7 Photon Emissionによるスパッタ率の測定
- 29a-F-13 Planar Minimum Yieldの評価におけるポテンシャルの影響
- 2p GD-11 He, ArイオンによるC, SiCのスパッタリング
- 31a-AB-9 ヘリウムイオンにとる金属のスパッタリングの測定
- 12p-J-3 面チャネリングにおける表面近傍の深さ依存性の計算
- 5a-K-3 フッ化物蒸着膜からの陽子の後方散乱
- 5p-KE-9 BaF_2の面チャネリングにおけるガンマイールドの異常性
- 4a-A-2 化合物における陽子の阻止断面積
- 7p-F-5 イオン単結晶における陽子のChammeling (V)
- 8a-L-6 イオン結晶内における陽子のChanneling (IV)
- 9a-Q-3 CaF_2単結晶における陽子のChanneling
- 陽子によるK殻電離 : 放射線物理
- 1p-E-5 陽子線励起特性X線(I)
- 14p-M-4 単結晶内における陽子のチャンネリング
- 3a-H-9 核反応におけるイールドの試料角度依存性
- バンデグラーフ型加速器 : 原子核実験
- 正・負高電圧パルス型プラズマ利用イオン注入法によるSi含有DLC膜の作製と評価(II) : 正パルスの波高値と耐熱性, 摩擦摩耗特性
- 正・負高電圧パルス型プラズマ利用イオン注入法で作製したSi含有DLC膜(I) : Si含有量と耐熱性及び摩擦摩耗特性
- 3a-H-7 800KV陽子によるルビーの発光
- 2p-R-9 RBS法によるヘリウムイオンの飛程分布の測定
- 名古屋市における地表γ線線量率分布
- サマリー・アブストラクト
- プラズマイオン注入法の計算機シミュレーション
- PBII法により作製したDLC膜の摩擦・摩耗特性
- Subplantationモデルに基づいたa-C:H膜形成の動的モンテカルロ・シミュレーション
- イオン注入による固体中微粒子の生成 (新材料技術研究等終了報告)
- イオン注入法を用いたガラス中への酸化銅ナノ粒子の形成
- イオン注入によるステンレス鋼の低摩擦・摩耗化
- イオンビ-ムによる材料表面改質の計算機解析 (計算機支援材料設計特集)
- 金属表面への高線量窒素イオン注入 (特集/イオンビ-ムと表面・表層・界面のかかわり(7))
- イオン注入によるアルミナ表面硬度の変化
- MeVイオン注入による固体表面の隆起
- バイポーラ・パルスを利用したPBII法によるDLC膜コーティング
- 高エネルギーイオンビームとプラズマの複合場を利用した表層改質技術に関する基礎研究
- 高線量でジルコニウムに注入した窒素の共鳴核反応法による深さ方向分布の測定
- 共鳴核反応法による深さ分析
- イオン注入した窒素の共鳴核反応法による深さ分析 : (II)励起曲線から深さ分布への変換プログラム
- イオン注入した窒素の共鳴核反応法による深さ分析 : (I)自動測定装置
- 炭化ケイ素へのヘリウムイオン注入-2-飛程分布形状が表面損傷に及ぼす影響
- 4. プラズマイオン注入法におけるプラズマのPIC-MCCシミュレーション(プラズマ応用技術におけるシミュレーション研究)
- Carbon蒸着膜におけるスパッタ率の基板依存性
- 高エネルギー電子ビームによる相互拡散
- 電子ビーム照射による不純物ドーピング
- RBS法によるa-SixCyHz膜の組成分析
- マグネトロン反応性スパッタリングによる炭化シリコン膜の組成と表面状態
- 西太平洋における約30日周期の雲量の変動〔英文〕
- プラズマCVDによる硬質カーボン膜コーティング
- 低圧プラズマCVDによる窒化シリコンコーティング膜
- プラズマCVDによる硬質カーボン膜コーティング
- 212 ダイナミックミキシング法によるTiN皮膜の形成
- 窒素イオン注入によるZrN層の形成と熱処理効果
- 炭化ケイ素へのヘリウムイオン注入-1-トラッピングとガス再放出特性
- ガス放出を利用したHeのNi中での飛程分布測定(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- 固体表面に打ち込んだイオンビ-ムの電算機シミュレ-ション-2-He→Nbの投影飛程分布に関するSASAMALの計算結果と解析値及び実測値との比較
- 固体表面に打ち込んだイオンビ-ムの電算機シミュレ-ション-1-液体モデルを用いたシミュレ-ションプログラムSASAMAL
- He照射したSiC/graphiteの表面損傷 (「低Zコ-ティング膜のキャラクタライゼ-ションワ-クショップ」「プラズマ・壁相互作用に関する研究会」報告) -- (low Z材料の特性と開発)
- エネルギー分布を持つHeイオン照射したSiCの表面損傷
- 無機材料中における入射イオンの投影飛程と標準偏差
- H2+及びHe+照射による炭化けい素の表面損傷
- 西太平洋における雲量の季節・年々変動--30日周期変動の変化に着目して〔英文〕
- 日本周辺海上域に出現する雲の分布の時間変化の特徴
- ガス放出を利用したHeのNi中での飛程分布測定(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- イオン注入によるTi化合物層形成過程とスパッタリング (第29回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 窒素イオン注入によるTiN層の形成 (イオン照射)