志水 隆一 | Osaka Inst. Technol. Osaka Jpn
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
志水 隆一
Osaka Inst. Technol. Osaka Jpn
-
志水 隆一
大阪工業大学
-
志水 隆一
大阪工業大学情報科学部情報科学科
-
志水 隆一
阪大工
-
遠藤 久満
京工繊大・工芸
-
遠藤 久満
阪大工
-
坪川 純之
阪大工
-
志水 隆一
大工大
-
志水 隆一
大阪大学工学部
-
志水 隆一
大阪工業大学情報科学部
-
後藤 敬典
産業技術研究所(中部センター)
-
Takai Yoshiaki
Nagoya University
-
多留谷 政良
大阪大学大学院工学研究科応用物理学専攻
-
広沢 哲
日立金属
-
広沢 哲
住特金
-
井上 雅彦
摂南大学工学部
-
原田 研
阪大工
-
広沢 哲
Neomax
-
Takeguchi Masaki
High Voltage Electron Microscopy Station National Institute For Materials Science
-
吉岡 明浩
大阪工業大学情報科学部情報科学科
-
井上 雅彦
摂南大理工
-
OGAI Keiko
Toyota Technological Institute
-
Ogai Keiko
Department Of Applied Physics Osaka University
-
TAKEGUCHI Masaki
Advanced Nano-characterization Center, National Institute for Materials Science
-
Takeguchi M
National Institute For Materials Science
-
Tanaka Miyoko
High Voltage Electron Microscopy Station National Institute For Materials Science
-
三宅 正司
阪大溶接研
-
江藤 輝一
日本電子(株)EO技術本部
-
山下 広順
名古屋大 理
-
土田 一輝
名大プラズマ研
-
橋本 初次郎
阪大工
-
坂 公恭
名古屋大学工学部
-
藤田 順治
名大プラ研
-
藤田 順治
名古屋大学プラズマ研究所核融合プラズマ計測センター
-
川崎 忠寛
名大院工
-
生田 孝
大阪電通大
-
森脇 和幸
Ntt電応研
-
木内 正人
産業技術総合研究所環境化学技術研究部門
-
松谷 貴臣
産業技術総合研究所
-
上田 一之
豊田工業大学 ナノハイテクリサーチセンター
-
佐川 真人
東北大学niche:インターメタリックス
-
日高 義和
Ntt通研
-
土田 一輝
名大プラ研
-
上原 洋一
阪府大工
-
佐々木 亘
阪府大工
-
山中 正宣
阪大工
-
高井 義造
大阪大学大学院工学研究科
-
坂 公恭
名古屋大学大学院工学研究科
-
坂 公恭
名古屋大学工学部量子工学
-
後藤 敬典
名古屋工業大学
-
佐川 真人
住友特殊金属
-
佐川 真人
住特金
-
広沢 哲
住友特殊金属株式会社
-
佐川 真人
住特金(株)
-
橋本 初次郎
岡山理科大学工学部機械システム工学科
-
上田 一之
阪大工
-
遠藤 久満
京工繊大工芸
-
橋本 初次郎
岡理大
-
横田 康広
岡理大
-
熊尾 章宏
京都工芸繊維大学
-
日高 義和
NTT光エレ研
-
志水 隆一
大阪大学大学院工学研究科
-
高井 義造
大阪大学大学院工学研究科 生命先端工学専攻
-
高井 義造
大阪大学工学部応用物理学教室
-
生田 孝
大阪歯科大学 口腔解剖
-
一村 信吾
電子技術総合研究所
-
ALKAFRI Adel
名古屋工業大学
-
市川 洋
名古屋工業大学
-
後藤 敬典
名工大工
-
姜 熙載
阪大工
-
鎌田 耕治
名大プラ研
-
鎌田 耕治
名古屋大 プラズマ研
-
木内 正人
産業技術総合研
-
木内 正人
産業技術総合研究所
-
坂 公恭
名古屋大学工学研究科
-
坂 公恭
名古屋大 大学院工学研究科
-
藤田 順治
名古屋大学プラズマ研究所
-
西方 健太郎
阪大院・工
-
木村 吉秀
阪大院・工
-
川崎 忠寛
阪大院・工
-
高井 義造
阪大院・工
-
志水 隆一
阪大院・工
-
藤本 史郎
新日本電工(株)
-
橋本 良夫
新日本電工(株)
-
原田 嘉晏
日本電子
-
山崎 泰規
阪大工
-
高橋 貞幸
株式会社リガク
-
白水 清孝
大阪工業大学情報科学部情報科学科
-
志水 隆一
大阪大学工学部応用物理学科
-
多留谷 政良
大阪大学工学部応用物理学科
-
開原 義之
大阪大学工学部応用物理学科
-
橋本 初次郎
岡山理大工
-
熊尾 章宏
京工繊大工芸
-
谷口 佳史
阪大工
-
荻原 淳一
住友セメント
-
坂 公恭
名古屋大学
-
熊尾 章宏
京工繊大・工芸
-
青木 好則
日本電子
-
黒河 明
独立行政法人産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門先端シリコンデバイスグループ
-
木村 吉秀
大阪大 大学院工学研究科
-
遠藤 久満
京都工芸繊維大学工芸学部
-
広沢 哲
住友特殊金属 (株) 研究開発部基礎研究室
-
森脇 和幸
NTT通研
-
村上 敏明
NTT通研
-
丁 澤軍
大阪大学工学部
-
黒河 明
大阪大学工学部
-
大島 清志
阪大工
-
宋 志毅
阪大工
-
周 政謙
北京科技大材料物理
-
江藤 輝一
日本電子
-
Takeguchi Masaki
Department Of Applied Physics Faculty Of Engineering Osaka University
-
Endoh H
Kyoto Inst. Technology Kyoto Jpn
-
高井 義造
大阪大学工学部
-
一村 信吾
電子技術総合研究所, 極限技術部
-
広沢 哲
住友特殊金属 (株)
-
志水 隆一
大阪大学工学部 応用物理学教室
著作論文
- 27a-U2-6 Nd-Fe-B永久磁石の粒界構造
- SIトレーサブルな電子分光法 ; CMAを例として
- Log-Log表示によるAESスペクトル:拡張Sickafus Plot
- 2a-SB-21 レーザー誘起蛍光法(LIFM)によるスパッタ : 原子の密度測定 I
- 実時間演算機能を有するCCDカメラの開発
- 11a-M-1 e^--Hg非弾性散乱のひずみ波近似による考察
- 5a-F-5 R-Fe-B永久磁石の粒界構造
- 6a-S3-12 Nd-Fe-Co-B永久磁石の粒界構造
- 強力軟X線源の開発-AlN/Cuターゲット
- スパッタリング--粒子線衝撃による固体表面の損耗
- 単結晶LaB6陰極電子銃の輝度
- 合金表面のイオンスパッタリングのコンピュ-タ-シミュレ-ション (プラズマ-壁相互作用の理論(研究会報告))
- 集束イオンビームによる断面TEM試料作製
- ダイヤモンドをよく知るために--評価法(16):透過型電子顕微鏡(2)試料作製法
- ダイヤモンドをよく知るために--評価法(16)透過型電子顕微鏡(1)概論
- 集束イオンビームでTEM用試料を作製したら
- 原子レベルのキャラクタリゼ-ションをめざして (マイクロビ-ムアナリシスの現状と展望)
- 電子顕微鏡技術の来し方行く末 (電子顕微鏡・装置開発の将来を探る)
- 電子顕微鏡誕生をもたらした背景について--Hans Betheより学んだことなど (〔分析電子顕微鏡討論会〕20周年特別企画)
- FIBにおける最小イオン照射損傷--cross-sectional sputteringの限界について (ハードマテリアル評価の最前線)
- 25a-Q-3 0.1μmφ電子線バイプリズム極細線の試作とその特性
- 6p-PS-9 Bi-Ca-Sr-Cu-O系高温超伝導材料の高分解能電顕観察
- 6a-B5-12 原子直視400kV電子顕微鏡の極低温観察装置の試作
- 6a-B5-10 B2型超格子構造FeAl合金における積層欠陥の検出と解析
- マイクロビームアナリシスとともに茫々45年 : その基礎的研究から国際標準化へ
- 多層膜ターゲットにおける特性X線の空間分布のモンテカルロシミュレーション
- 低速イオン銃を用いた高分解能深さ方向分析〔含 査読者からのコメント・質疑応答〕
- FIB : その開発が目指したもの
- Study of Defects and Strains on Cleaved GaAs (110) Surface by Reflection Electron Microscopy
- The Fringe Scanning Method as Numerical Reconstruction for Electron Holography
- Aberration Correction by Electron Holography Using Numerical Reconstruction Method
- Observation of GaAs(110)Surface Defect by Reflection Electron Holography
- 29p-PS-52 Y-Ba-Cu酸化物の高分解能電子顕微鏡観察
- 定量オージェ分光法の進展II : 定量分析への理論的アプローチ
- Anti-Contamination Electron Biprism for Electron Holography
- 6p-W-4 シリコン高分解能電顕像解釈
- 電子分光と電子顕微鏡
- 原子直視分析電子顕微鏡 (極限技術と応用物理特集号) -- (光・粒子ビ-ムの極限)
- オージェ定量分析の基礎 : 背面散乱電子効果の補正を中心にして
- 「表面と分光学」第6講オージエ電子分光法 (AES) その発見からマイクロプローブAESまで