志水 隆一 | 大阪工業大学情報科学部情報科学科
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概要
関連著者
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志水 隆一
大阪工業大学情報科学部情報科学科
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志水 隆一
大阪工業大学
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志水 隆一
Osaka Inst. Technol. Osaka Jpn
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志水 隆一
大工大
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志水 隆一
大阪工業大学情報科学部
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Takai Yoshiaki
Nagoya University
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多留谷 政良
大阪大学大学院工学研究科応用物理学専攻
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井上 雅彦
摂南大学工学部
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後藤 敬典
産業技術研究所(中部センター)
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Takeguchi Masaki
High Voltage Electron Microscopy Station National Institute For Materials Science
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吉岡 明浩
大阪工業大学情報科学部情報科学科
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井上 雅彦
摂南大理工
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OGAI Keiko
Toyota Technological Institute
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Ogai Keiko
Department Of Applied Physics Osaka University
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TAKEGUCHI Masaki
Advanced Nano-characterization Center, National Institute for Materials Science
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Takeguchi M
National Institute For Materials Science
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Tanaka Miyoko
High Voltage Electron Microscopy Station National Institute For Materials Science
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坂 公恭
名古屋大学工学部
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川崎 忠寛
名大院工
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生田 孝
大阪電通大
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木内 正人
産業技術総合研究所環境化学技術研究部門
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松谷 貴臣
産業技術総合研究所
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高井 義造
大阪大学大学院工学研究科
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原田 研
阪大工
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坂 公恭
名古屋大学大学院工学研究科
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坂 公恭
名古屋大学工学部量子工学
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志水 隆一
阪大工
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遠藤 久満
京工繊大工芸
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遠藤 久満
京工繊大・工芸
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熊尾 章宏
京都工芸繊維大学
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志水 隆一
大阪大学工学部
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志水 隆一
大阪大学大学院工学研究科
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高井 義造
大阪大学大学院工学研究科 生命先端工学専攻
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高井 義造
大阪大学工学部応用物理学教室
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生田 孝
大阪歯科大学 口腔解剖
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ALKAFRI Adel
名古屋工業大学
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市川 洋
名古屋工業大学
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木内 正人
産業技術総合研
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木内 正人
産業技術総合研究所
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坂 公恭
名古屋大学工学研究科
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坂 公恭
名古屋大 大学院工学研究科
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西方 健太郎
阪大院・工
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木村 吉秀
阪大院・工
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川崎 忠寛
阪大院・工
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高井 義造
阪大院・工
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志水 隆一
阪大院・工
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藤本 史郎
新日本電工(株)
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橋本 良夫
新日本電工(株)
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高橋 貞幸
株式会社リガク
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白水 清孝
大阪工業大学情報科学部情報科学科
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多留谷 政良
大阪大学工学部応用物理学科
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開原 義之
大阪大学工学部応用物理学科
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熊尾 章宏
京工繊大工芸
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坂 公恭
名古屋大学
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熊尾 章宏
京工繊大・工芸
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木村 吉秀
大阪大 大学院工学研究科
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遠藤 久満
京都工芸繊維大学工芸学部
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Takeguchi Masaki
Department Of Applied Physics Faculty Of Engineering Osaka University
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高井 義造
大阪大学工学部
著作論文
- SIトレーサブルな電子分光法 ; CMAを例として
- Log-Log表示によるAESスペクトル:拡張Sickafus Plot
- 実時間演算機能を有するCCDカメラの開発
- 強力軟X線源の開発-AlN/Cuタｰゲット
- 集束イオンビームによる断面TEM試料作製
- ダイヤモンドをよく知るために--評価法(16):透過型電子顕微鏡(2)試料作製法
- ダイヤモンドをよく知るために--評価法(16)透過型電子顕微鏡(1)概論
- 集束イオンビームでTEM用試料を作製したら
- 定量オ-ジェ分光法の進展-2-定量分析への理論的アプロ-チ
- 電子顕微鏡誕生をもたらした背景について--Hans Betheより学んだことなど (〔分析電子顕微鏡討論会〕20周年特別企画)
- FIBにおける最小イオン照射損傷--cross-sectional sputteringの限界について (ハードマテリアル評価の最前線)
- 25a-Q-3 0.1μmφ電子線バイプリズム極細線の試作とその特性
- マイクロビームアナリシスとともに茫々45年 : その基礎的研究から国際標準化へ
- 多層膜ターゲットにおける特性X線の空間分布のモンテカルロシミュレーション
- 低速イオン銃を用いた高分解能深さ方向分析〔含 査読者からのコメント・質疑応答〕
- FIB : その開発が目指したもの
- Study of Defects and Strains on Cleaved GaAs (110) Surface by Reflection Electron Microscopy
- The Fringe Scanning Method as Numerical Reconstruction for Electron Holography
- Aberration Correction by Electron Holography Using Numerical Reconstruction Method
- Observation of GaAs(110)Surface Defect by Reflection Electron Holography