松谷 貴臣 | 産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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木内 正人
産業技術総合研究所環境化学技術研究部門
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松谷 貴臣
産業技術総合研究所
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木内 正人
産業技術総合研
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竹内 孝江
産業技術総合研究所
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竹内 孝江
奈良女子大学
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後藤 誠一
大阪大 大学院工学研究科
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後藤 誠一
大阪大学大学院工学研究科附属原子分子イオン制御理工学センター
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浅沼 達哉
産業技術総合研究所
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劉 昌
産業技術総合研究所
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後藤 誠一
大阪大学工学部超高温理工学研究施設
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松本 貴士
産業技術総合研究所環境化学技術研究部門
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木内 正人
大阪工業技術研究所
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美本 和彦
大阪大学大学院工学研究科超高温理工学研究施設
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松本 貴士
大阪大学大学院工学研究科超高温理工学研究施設
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志水 隆一
大阪工業大学情報科学部
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志水 隆一
大阪工業大学
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木内 正人
産業技術総合研究所
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高橋 貞幸
株式会社リガク
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藤川 友佳
産業技術総合研究所
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白水 清孝
大阪工業大学情報科学部情報科学科
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吉岡 明浩
大阪工業大学情報科学部情報科学科
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松谷 貴臣
大阪工業技術研究所
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志水 隆一
Osaka Inst. Technol. Osaka Jpn
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志水 隆一
大阪工業大学情報科学部情報科学科
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後藤 誠一
大阪大学大学院工学研究科原子分子イオン制御理工学センター
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後藤 誠一
大阪大学大学院
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後藤 誠一
大阪大学工学部
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美本 和彦
大阪大学大学院工学研究科
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松本 貴士
大阪大学大学院工学研究科
著作論文
- 有機ケイ素を用いたイオン誘起CVD法の開発
- イオンビーム誘起化学蒸着法による酸化スズ薄膜の作製
- 強力軟X線源の開発-AlN/Cuタｰゲット
- イオンビーム誘起CVDによる有機ケイ素を用いたアモルファス炭化ケイ素薄膜の作製
- ヘキサメチルジシランを用いたイオンビーム誘起CVD法
- 有機ケイ素イオンビームを用いたSiCの低温結晶成長