原子直視分析電子顕微鏡 (極限技術と応用物理特集号) -- (光・粒子ビ-ムの極限)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 5p-E-5 半導体-金属界面の高分解能電子顕微鏡による横断面観察
- 1p-KK-11 高分解能電子顕微鏡用Imaging Energy Analyserの製作と応用(II)
- 14a-T-11 高分解能電子顕微鏡用エネルギーフィルターの製作と応用
- 31p-M-5 Cuの初期酸化において生じたCu_4Oの構造解析
- 27a-U2-6 Nd-Fe-B永久磁石の粒界構造
- 2p-E-12 金(111)結晶表面原子高分解能電子顕微鏡による観察
- 等厚干渉縞強度解析によるSi及びMgO結晶のポンテンシャル評価
- SIトレーサブルな電子分光法 ; CMAを例として
- Log-Log表示によるAESスペクトル:拡張Sickafus Plot
- 2a-SB-21 レーザー誘起蛍光法(LIFM)によるスパッタ : 原子の密度測定 I
- 実時間演算機能を有するCCDカメラの開発
- 3a-F-8 半導体メモリー素子の断面構造観察
- 11a-M-1 e^--Hg非弾性散乱のひずみ波近似による考察
- 30a-H-4 金結晶格子欠陥の芯構造と挙動の観察
- 2a GK-7 原子の挙動の動的観察
- 2a GK-4 各種結晶内原子像を無収差で撮影する方法の実現
- 3a GJ-11 双晶境界格子欠陥の原子配列の電顕観察
- 5p-BK-8 電子線による動的解析(透過型電子顕微鏡による結晶内原子像の動的観察まで)
- 5a-F-5 R-Fe-B永久磁石の粒界構造
- 6a-S3-12 Nd-Fe-Co-B永久磁石の粒界構造
- 28a-ZB-3 Ti-Al系合金薄膜の作製と構造
- 微細粒アルミナの圧縮による変形機構
- 27pYA-2 微細粒超塑性セラミックスの変形機構
- 複合化微粒アルミナの圧縮変形と構造変化
- 28a-P-1 超塑性セラミックスの電子顕微鏡観察
- 強力軟X線源の開発-AlN/Cuタｰゲット
- スパッタリング--粒子線衝撃による固体表面の損耗
- 単結晶LaB6陰極電子銃の輝度
- 合金表面のイオンスパッタリングのコンピュ-タ-シミュレ-ション (プラズマ-壁相互作用の理論(研究会報告))
- 集束イオンビームによる断面TEM試料作製
- ダイヤモンドをよく知るために--評価法(16):透過型電子顕微鏡(2)試料作製法
- ダイヤモンドをよく知るために--評価法(16)透過型電子顕微鏡(1)概論
- 集束イオンビームでTEM用試料を作製したら
- 2a-E-1 コンピュータによる微小制限視野回析法の格子欠陥解析への応用
- 原子レベルのキャラクタリゼ-ションをめざして (マイクロビ-ムアナリシスの現状と展望)
- 電子顕微鏡技術の来し方行く末 (電子顕微鏡・装置開発の将来を探る)
- 電子顕微鏡誕生をもたらした背景について--Hans Betheより学んだことなど (〔分析電子顕微鏡討論会〕20周年特別企画)
- FIBにおける最小イオン照射損傷--cross-sectional sputteringの限界について (ハードマテリアル評価の最前線)
- 2p-U-5 高分解能格子像法によるAl-Cu合金のG.P.ゾーンの観察
- 3a-X-12 非弾性散乱過程を伴う電子による結晶の電顕像コントラスト
- 31p-M-6 厚いMgO結晶の格子像
- 3p-M-10 吸収を考慮した電子回折理論による MgO 結晶内の電子の振舞い
- 4p-AD-9 Crossed Bend Contoursの加速電圧依存性
- 6p-H-9 電子線回折動力理論によるMgO結晶の電子チャンネリング
- 14a-T-5 結晶格子像解析へのディジタル処理の応用
- 29p-L-11 格子欠陥格子像のon line FTの高解像化
- 2p-U-2 高速画像計測処理装置の開発と高分解能電子顕微鏡への応用
- 25a-Q-3 0.1μmφ電子線バイプリズム極細線の試作とその特性
- 6p-PS-9 Bi-Ca-Sr-Cu-O系高温超伝導材料の高分解能電顕観察
- 無球面収差結像法の有効性
- 31p-C-11 MgO/MgAl_2O_4/Al_2O_3の同時高分解能電顕像の最適観察条件(II)
- 29a-B-11 MgO/MgAl_2O_4/Al_2O_3の同時高分解能電顕像の最適観察条件
- 6a-B5-12 原子直視400kV電子顕微鏡の極低温観察装置の試作
- 4p-M-15 非弾性散乱波による結晶格子像コントラストの低下
- 4p-M-5 MoS_2 の高分解能電子顕微鏡像
- 6a-B5-10 B2型超格子構造FeAl合金における積層欠陥の検出と解析
- 生体応用に向けての水酸アパタイト微細構造制御
- 28p-A-5 高分解能電子顕微鏡像のウェーヴレット解析
- 低エネルギー損失内殻励起電子の局在性
- 3a-X-4 ThO_2結晶表面の電顕像コントラスト
- 31a-YM-4 ThO_2微結晶の電顕像コントラスト
- 12p-DL-4 Ti-V-Al系合金の構造変化と電顕観察
- 30p-ZB-5 原子レベルの暗視野電子顕微鏡法へのイメージングプレートの応用
- Bi-Pb-Sr-Ca-Cu-O系超伝導体の変調構造
- 3p-E-2 電子顕微鏡像の画像処理による格子欠陥の解析
- 6a-B5-11 弾性-非弾性および非弾性 : 弾性散乱過程による等傾角干渉縞の電顕像コントラスト
- 2P-TA-5 Th原子およびそのクラスターのイメジングプレートによる電顕像観察
- マイクロビームアナリシスとともに茫々45年 : その基礎的研究から国際標準化へ
- 多層膜ターゲットにおける特性X線の空間分布のモンテカルロシミュレーション
- 低速イオン銃を用いた高分解能深さ方向分析〔含 査読者からのコメント・質疑応答〕
- FIB : その開発が目指したもの
- Study of Defects and Strains on Cleaved GaAs (110) Surface by Reflection Electron Microscopy
- The Fringe Scanning Method as Numerical Reconstruction for Electron Holography
- Aberration Correction by Electron Holography Using Numerical Reconstruction Method
- Observation of GaAs(110)Surface Defect by Reflection Electron Holography
- 29p-PS-52 Y-Ba-Cu酸化物の高分解能電子顕微鏡観察
- 2p-TA-7 電子線ホログラフィーにおける3次元情報
- 5a-L-12 結晶格子電顕像の画像処理の一方法
- 定量オージェ分光法の進展II : 定量分析への理論的アプローチ
- Anti-Contamination Electron Biprism for Electron Holography
- 6p-W-4 シリコン高分解能電顕像解釈
- 電子分光と電子顕微鏡
- 原子直視分析電子顕微鏡 (極限技術と応用物理特集号) -- (光・粒子ビ-ムの極限)
- 2a-M-8 MX_2 CDWの電子顕微鏡による研究(II)
- 1a-KK-5 MX_2CDW相の電子顕微鏡による研究
- 13p-PS-7 TaS_2におけるCDW相の高分解能電子顕微鏡による研究
- 6p-H-2 電子顕微鏡による原子内電子雲の直接観察
- 7p-S-2 液滴成長における液状酸化タングステンの生成条件
- 3a-B-10 TaS_2の超格子構造とその異常の電子顕微鏡による観察
- 2a GK-6 Au及びAu-Al合金結晶格子像の微細構造
- 5a-L-1 電子顕微鏡像の元素分解能
- オージェ定量分析の基礎 : 背面散乱電子効果の補正を中心にして
- 「表面と分光学」第6講オージエ電子分光法 (AES) その発見からマイクロプローブAESまで