横谷 篤至 | 宮崎大学工学部電気電子工学科
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概要
関連著者
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横谷 篤至
宮崎大学工学部電気電子工学科
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横谷 篤至
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黒澤 宏
宮崎大学
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黒澤 宏
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宮崎大学工学部電気電子工学科
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宮崎大学工学部電気電子工学科
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宮崎大学 工学部 電気電子工学科
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宮崎大学 工学部 電気電子工学科
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窪寺 昌一
宮崎大学 工学部 電気電子工学科
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宮林 延良
電子科学株式会社
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加来 昌典
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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竹添 法隆
宮崎大学工学部電気電子工学科
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宮野 淳一
宮崎沖電気
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岡崎 裕太郎
宮崎大学工学部電気電子工学科
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瀧川 靖雄
阪電通大
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黒木 泰宣
宮崎大学工学部電気電子工学科
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松尾 直之
宮崎大学工学部電気電子工学科
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仲前 一男
住友電気工業株式会社播磨研究所
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宮林 延良
電子科学(株)
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前薗 好成
JSTサテライト宮崎
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瀧川 靖雄
大阪電気通信大学工学部
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歳川 清彦
宮崎沖電気
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和佐本 真
宮崎大学 工学部
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黒木 泰宜
宮崎大学工学部電気電子工学科
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福永 出
宮崎大学工学部電気電子工学科
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高野 智也
宮崎大学工学部電気電子工学科
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河仲 準二
大阪大学レーザーエネルギー学研究センター
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宮永 憲明
阪大レーザー研
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宮永 憲明
大阪大学レーザーエネルギー学研究センター
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瀧川 靖雄
大阪電気通信大学
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佐々木 亘
宮崎大学
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河仲 準二
宮崎大学工学部
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佐藤 明子
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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水野 俊男
宮崎大学大学院
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水野 俊男
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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横谷 篤至
宮崎大
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窪寺 昌一
宮崎大学
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甲藤 正人
宮崎大学
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石村 想
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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甘利 紘一
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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横山 哲郎
宮崎沖電気株式会社
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和佐本 真
宮崎大学工学部電気電子工学科
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前園 好成
宮崎大学 工学部
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中村 幸司
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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本山 理一
宮崎沖電気株式会社
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黒江 康博
宮崎大学工学部電気電子工学科
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若松 利享
宮崎大学工学部電気電子工学科
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吉田 國雄
大阪工業大学工学部
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カイリル ヌルフスナ
宮崎大学
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阿部 信行
大阪大学接合科学研究所
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片山 誠
住友電気工業株式会社
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河仲 準二
大阪大学 レーザーエネルギー学研究センター
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瀧川 靖雄
大阪電通大
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五十嵐 龍志
ウシオ電機技術研
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塚本 雅裕
大阪大学接合科学研究所
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高田 博史
住友電気工業(株) 播磨研究所
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中山 斌義
近畿大学理工学部電気電子工学科
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中山 斌義
近畿大学大学院総合理工学研究科
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河仲 準二
日本原子力研究所光量子科学研究センター
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五十嵐 龍志
ギガフォトン(株)
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窪寺 昌一
宮崎大学地域共同研究センター
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蟹江 智彦
住友電気工業株式会社 光通信研究所
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三間 國興
大阪大学レーザーエネルギー学研究センター
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向本 徹
宮崎大学大学院
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向本 徹
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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川原 公介
宮崎大学大学院
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谷口 雄太
宮崎大学 工学部 電気電子工学科
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吉田 国雄
大阪工業大学工学部
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塚本 雅裕
大阪大学 接合科学研究所
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中山 斌義
近畿大学・理工
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仲前 一男
住友電気工業(株)エレクトロニクス・材料研究所
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高田 博史
住友電気工業(株)エレクトロニクス・材料研究所
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蟹江 智彦
住友電気工業
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瀧川 靖雄
大阪電気通信大学工学部電子工学科
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松野 博光
ウシオ電機株式会社
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五十嵐 龍志
ウシオ電機(株)
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五十嵐 龍志
ウシオ電気
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五十嵐 龍志
ウシオ電機株式会社技術研究所
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黒澤 宏
宮崎大・工
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福島 康広
宮崎大学工学部電気電子工学科
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加藤 隆晴
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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甲藤 正人
宮崎大学工学部電気電子工学科
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高田 博史
住友電気工業株式会社播磨研究所
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佐々木 亘
(株)NTP
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小田 一義
宮崎大学工学部電気電子工学科
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長友 章悟
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
中村 幸司
宮崎大学工学部電気電子工学科
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尾田 真
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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蟹江 智彦
住友電気工業株式会社
-
沢田 博司
キヤノンマシナリー
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上村 一秀
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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吉田 智司
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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柳田 英明
宮崎大学 地域共同研究センター
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前園 好成
宮崎大学工学部電気電子工学科
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有富 謙悟
宮崎大学工学部
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黒沢 宏
宮崎大学工学部
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有富 謙悟
宮崎大学工学研究科電気工学専攻
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松野 博光
ウシオ電機
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高田 博史
住友電気工業(株)
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河仲 準二
大阪大 レーザーエネルギー学研究セ
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ヌルフスナ ビンティ
宮崎大学工学部電気電子工学科
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三間 圀興
阪大レーザー研
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宮永 忠明
大阪大学レーザーエネルギー学研究センター
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吉田 國雄
Entropia レーザー Initiative
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藤田 雅之
レーザー技術総合研究所
-
宮永 憲明
大阪大学 レーザーエネルギー学研究センター
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藤田 雅之
(財)レーザー技術総合研究所
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片山 貴博
近畿大学理工学部電気電子工学科
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東口 武史
宮崎大学 工学部
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三間 圀興
大阪大学レーザー核融合研究センター:ワーキンググループ
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仲前 一男
大阪府立大学
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仲前 一男
大阪府大
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室井 栄治
宮崎大
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三間 圀興
大阪大学 レーザー研
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笹子 勝
技術研究組合超先端電子技術開発機構
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木村 茂行
新技術事業団
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佐々木 孝友
大阪大学工学部
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吉田 国雄
大阪大学レーザー核融合研究センター
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中山 斌義
近畿大学
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甲藤 正人
宮崎大学地域共同研究センター
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堀 哲郎
大阪電通大
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阿部 信行
大阪大学 接合科学研究所
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阿部 信行
大阪大学
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大城 信也
宮崎大学工学部電気電子工学科
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和田 一洋
宮崎大学工学部(元)
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和田 一洋
宮崎大 工
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藤本 健二
清本鐵工(株)
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春木 英將
宮崎大学工学部
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塘口 直樹
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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中島 耕作
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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竹添 法隆
宮崎大学・工
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塚本 雅裕
大阪大学溶接工学研究所
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鄭 翔翼
新技術事業団木村融液動態プロジェクト
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伊藤 智海
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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川原 公介
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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野村 涼
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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上木原 忠
宮崎大学工学部電気電子工学科
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谷口 雄太
宮崎大学工学部電気電子工学科
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細谷 章
宮崎大学 産学連携センター
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山本 郁夫
JSTサテライト宮崎
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田中 学
宮崎大学工学部電気電子工学科
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平 洋一
日本IBM
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河野 修一
キヤノン
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Fujita M
Kyoto Univ. Kyoto Jpn
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藤本 健二
清本鐵工株式会社
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柴田 登
大阪電通大
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伊沢 靖和
阪大レーザー研
-
良妻 宏治
新技術事業団 木村プロジェクト
-
塚本 雅裕
大阪大学
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Fujita Masayuki
New Materials Research Center Sanyo Electric Co.
-
Fujita Masayuki
Yokohama National University Department Of Electrical And Computer Engineering
-
奈須 嘉夫
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
-
良妻 宏治
新技術事業団木村融液動態プロジェクト
-
和田 一洋
宮崎大学工学部
-
笹子 勝
技術研究組合超先端電子技術開発機構超微細感光技術研究室
-
亀田 芳人
宮崎大学工学部工学研究科電気電子工学専攻
-
高濱 利光
坂田電機株式会社
-
本山 理一
宮崎大学
-
今村 一晴
宮崎大学工学研究科物質エネルギー工学専攻
-
河崎 泰宏
分子科学研究所
-
柳田 英明
分子科学研究所
-
宮野 淳一
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
本川 洋右
宮崎沖電気株式会社
-
前薗 好成
宮崎大学工学部
-
本川 洋右
宮沖電気(株)
-
吉田 国雄
大阪工業大学工学部電子工学科
-
金光 泰
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
-
福本 英人
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
-
楢原 達哉
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
岩佐 洋助
JSTイノベーションサテライト宮崎
-
前薗 好成
JSTイノベーションサテライト宮崎
-
山本 郁夫
東横エルメス
-
吉岡 章夫
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
-
柳田 英明
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
河崎 泰宏
宮崎大
-
黒澤 宏
宮崎沖電気(株)
-
久村 聡
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
-
若松 功二
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
-
柏田 大輔
宮崎大学工学研究科電子電気工学専攻
著作論文
- 高機能性光源を用いた新しい産業技術への応用
- PLD法による炭素粒子のSi(111)7×7表面上への吸着の観察
- PLD法による多結晶ハイドロキシアパタイト被膜の室温成長
- 真空紫外線によるプラスチックの表面改質技術 (特集 コーティングで打ち勝つ(1)テクノロジー・ハード編)
- Laser Original 全固体近紫外レーザーよるファイバブラッググレーティング作製技術の開発 (「屋外で活躍するレーザー」特集号)
- レーザー生成プラズマ極端紫外光源を用いた光脱離質量分析装置の開発
- 真空紫外光源の開発とその応用
- 流体潤滑にあるしゅう動表面のぬれ性による摩擦への影響
- フェムト秒レーザを用いた薄厚シリコンウエハのダイシング加工 : レーザパルス幅が抗折強度と切断品質に及ぼす影響
- フェムト秒レーザーを用いた半導体関連材料の加工と特性の評価
- 時間波形制御したフェムト秒レーザによる極薄半導体基板のダイシング技術の開発
- フェムト秒レーザを用いた極薄半導体基板の加工技術の開発
- フェムト秒レーザアブレーションにおけるレーザ発振条件の加工特性に及ぼす影響
- フェムト秒レーザーを用いた自己組織的表面構造の形成
- ダブルパルスを用いたフェムト秒レーザーによるSiの加工
- フェムト秒レーザアブレーションにおけるレーザ発振条件の及ぼす影響
- フェムト秒レーザによるSiの穴あけ加工
- PLD法によるハイドロキシアパタイト被膜の形成
- 真空紫外光を用いたアクリル樹脂の反射防止コーティング技術の開発
- 真空紫外光によるプラスチックの表面改質
- 真空紫外光による光励起表面脱離プロセスと表面分析への応用
- 石英ガラス第2高調波発生
- エキシマレーザーによる電界分極石英ガラス中のSHG相の消去プロセス
- 電界分極Ge-doped石英ガラスの2次の非線形光学性
- レーザーを用いたFBGセンサー製作技術の開発
- フェムト秒レーザーを用いた半導体関連材料の加工と特性の評価
- フェムト秒ファイバーレーザーを用いたTHG顕微鏡の製作
- フェムト秒レーザによる微細周期構造の形成
- 放電励起希ガスエキシマレーザーに関する研究
- 誘電体バリア放電Xeエキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- 真空紫外光エキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- ファイバグレーティングセンサ反射特性のシミュレーションによる解析
- 紫外レーザーを用いたファイバーグレーティングセンサーの作製と特性評価
- PLD法によるフッ化ランタン薄膜の作製
- フェムト秒レーザーを用いた半導体基盤の加工技術の開発
- 紫外・真空紫外光源の開発と光プロセスへの応用
- 高機能性光源によるマテリアルプロセッシング
- 高輝度真空紫外コヒーレント光源の開発
- 高強度真空紫外アルゴンエキシマレーザーの開発
- 高機能性光源を用いたマテリアルプロセッシングの研究
- 誘電体バリア放電エキシマランプによる酸化ゲルマニウム薄膜の作製
- フェムト秒レーザ照射によるシリコンウェーハの周期的パターニングと異方性エッチングによる微細構造形成
- 半導体集積回路分野
- MgIn_2O_4のArFエキシマレーザーアブレーション粒子のイオンサイクロトロン共鳴精度質量分析
- 超軟X線発光分析のレーザープロセシングへの応用
- 真空紫外レーザー照射改質表面の軟X線発光分析
- Dynamic Estimation of Surface Tension of Si by a Hanging Drop
- エキシマランプを用いたフォトエッチングの基礎特性
- 高エネルギー及び高輝度光源を用いたマテリアルプロセッシングの研究
- 熱ポーリングによる中空石英ガラス管の第2高調波の高効率発生
- 石英ガラスを用いた波長変換デバイス
- 等方性石英ガラスにおける二次非線形光学性
- 表面プラズモン共鳴を用いた薄膜モニター
- STM による薄膜の形成初期過程の観察
- FBG走査型狭帯域フィルタを使用したFBGセンサ用測定器の開発
- 物質表面における光化学反応の原子レベルでの観察と制御
- 真空紫外光を用いた半導体プロセス低温化技術
- VUV-CVDで生成したシリカ膜の電気特性(レーザ・量子エレクトロニクス)
- 真空紫外エキシマランプによる銅薄膜の室温合成に関する研究
- エキシマレーザーを用いた透明導電性酸化物薄膜の作成
- エキシマレーザーアブレーションによる透明導電性酸化物膜の作成
- フォトン走査型トンネル顕微鏡に関する研究
- 真空紫外エキシマランプCVDによる薄膜作成
- 真空紫外エキシマランプによる光洗浄技術の開発(II)
- フェムト秒レーザーによる材料加工に関する研究 : 高時間分解能イメージングなどによる加工過程の計測
- 真空紫外光源の開発とその応用
- 真空紫外光CVD法によるSiNx薄膜の低温作製
- 全固体近紫外レーザーよるファイバブラッググレーティング作製技術の開発
- VUV-CVDを用いたSiO_2膜生成における生成レート制限因子
- 真空紫外光CVDによる酸化膜形成評価
- 極端紫外光源を用いた光脱離質量分析装置の開発
- PLD法における薄膜成長初期過程の観察
- エキシマレーザーアブレーションによるβ-SiC薄膜の作製
- 光応用工学研究室
- 真空紫外光CVD法による有機シロキサンを用いた酸化膜形成評価
- フェムト秒領域のパルスレーザーによる材料加工技術の開発
- 真空紫外希ガスエキシマランプを利用した薄膜形成
- 「食品分野への光応用」特集号によせて
- 水中レーザーアブレーション法による生体親和性ナノ粒子の創成
- 飛行時間型質量分析法による表面微量分析技術の開発
- PLD法による薄膜形成の初期過程の観察
- レーザーを用いたFBGセンサー製作技術の開発
- Atomic scale observation of the initial stage of thin film formation by PLD method
- 多機能真空紫外希ガスエキシマ光源
- 添加ガスによる真空紫外光CVD-SiO_2膜の品質向上
- 新非線形光学結晶の育成と評価
- PLD法による結晶性チタン酸バリウム薄膜の作製
- エキシマレーザーアブレーションによる非線形光学薄膜の作製
- フェムト秒レーザーアブレーションによるサファイア薄膜の作製
- エキシマレーザーアブレーションを利用したβ-SiC薄膜の作製
- エキシマレーザーアブレーションを利用したTi:Al_2O_3薄膜の作製
- パルスレーザーデポジション法による光機能性薄膜作製の研究
- 高機能性センサー素子の作製を目指したFBG作製技術の開発
- 走査型トンネル顕微鏡の製作と性能
- 短パルスレーザーを用いた表面加工技術の開発
- Mo-Siミラーの光洗浄と光脱離分析評価
- レーザー生成プラズマ極端紫外光源の開発と表面分析への応用
- 高輝度真空紫外光源の開発と極端紫外光極微細分析技術への展開