石英ガラスを用いた波長変換デバイス
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概要
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我々は高純度石英ガラスにあらかじめKrFエキシマレーザーを照射してから熱ポーリングすることによりおおきな2次非線形光学性を発現させることに成功した。空気中で900oCで熱処理を行って酸素分子を導入した試料を用いることによって最大0.71pm/Vのχ_<33>^<(2)>が得られた。更に一度に得られた2次非線形光学相にKrFエキシマレーザーを照射することで2次非線形光学性が消去することを見いだした。KrFエキシマレーザーによる2次非線形の生成と消去過程、及び光学吸収スペクトル、発光スペクトルの結果から、我々は≡Si-O^-が2次非線形光学性発現に重要な役割を果たしていることを見つけた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-05-11
著者
-
亀山 晃弘
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
横谷 篤至
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
黒澤 宏
宮崎大学
-
黒澤 宏
宮崎大学工学部電気電子工学科
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黒澤 宏
宮崎大学工学部
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亀山 晃弘
宮崎大学工学部
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横谷 篤至
宮崎大学工学部
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