VUV-CVDを用いたSiO_2膜生成における生成レート制限因子
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-03-07
著者
-
横谷 篤至
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
黒澤 宏
宮崎大学
-
佐々木 亘
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
佐々木 亘
株式会社NTP
-
横山 哲郎
宮崎沖電気株式会社
-
黒澤 宏
分子科学研究所
-
歳川 清彦
宮崎沖電気
-
宮野 淳一
宮崎沖電気
-
本山 理一
宮崎沖電気株式会社
-
本山 理一
宮崎大学:宮崎沖電気株式会社ファンダリ部
-
横谷 篤至
宮崎大学工学部
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