佐々木 亘 | 株式会社NTP
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概要
関連著者
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佐々木 亘
株式会社NTP
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窪寺 昌一
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
佐々木 亘
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
窪寺 昌一
宮崎大学工学部
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河仲 準二
宮崎大学工学部
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河仲 準二
大阪大学レーザーエネルギー学研究センター
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横谷 篤至
宮崎大学工学部電気電子工学科
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黒澤 宏
宮崎大学
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東口 武史
宮崎大学 工学部
-
河仲 準二
大阪大 レーザーエネルギー学研究セ
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東口 武史
宮崎大学工学部電気電子工学科
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東口 武史
宮崎大学工学部
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河仲 準二
大阪大学 レーザーエネルギー学研究センター
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横谷 篤至
宮崎大学
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加来 昌典
宮崎大学工学部電気電子工学科
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窪寺 昌一
宮崎大学 工学部 電気電子工学科
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五十嵐 龍志
ギガフォトン(株)
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五十嵐 龍志
ウシオ電機(株)
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五十嵐 龍志
ウシオ電気
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五十嵐 龍志
ウシオ電機株式会社技術研究所
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横谷 篤至
宮崎大学工学部
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竹添 法隆
ウシオ電機(株)
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河仲 準二
宮崎大学 工
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松野 博光
ウシオ電機
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甲藤 正人
宮崎大学産学連携センター
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佐々木 亘
宮崎大学
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甲藤 正人
近畿大学
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五十嵐 龍志
ウシオ電機技術研
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甲藤 正人
宮崎大学 産学連携センター
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宮林 延良
電子科学株式会社
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佐々木 亘
宮崎大学 工
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黒澤 宏
宮崎大学工学部
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窪寺 昌一
宮崎大学
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松野 博光
ウシオ電機株式会社
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甲藤 正人
近畿大学理工学部
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窪寺 昌一
宮崎大学 工学部電気電子工学科
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瀧川 靖雄
阪電通大
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加来 昌典
宮崎大学 工学部 電気電子工学科
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横谷 篤至
宮崎大学 工学部 電気電子工学科
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加来 昌典
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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ラジヤグル チラグ
宮崎大学工学部
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宮林 延良
電子科学(株)
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黒澤 宏
分子科学研究所
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瀧川 靖雄
大阪電気通信大学工学部
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佐々木 亘
宮崎大工
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瀧川 靖雄
大阪電気通信大学
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黒澤 宏
宮崎大学工学部電気電子工学科
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吉原 真哉
宮崎大学 工
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白井 隆宏
宮崎大工電気電子
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仲前 一男
住友電気工業株式会社播磨研究所
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古賀 方土
宮崎大学工学部
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佐々木 亘
(株)ナノテクフォトン
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古賀 方土
宮崎大工
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佐々木 亘
宮崎大・工
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横山 哲郎
宮崎沖電気株式会社
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徳永 晋次
宮崎大学・工
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歳川 清彦
宮崎沖電気
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宮野 淳一
宮崎沖電気
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本山 理一
宮崎沖電気株式会社
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本山 理一
宮崎大学:宮崎沖電気株式会社ファンダリ部
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吉田 國雄
大阪工業大学工学部
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仲前 一男
阪府大工
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黒沢 宏
宮崎大工
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河仲 準二
日本原子力研究所光量子科学研究センター
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白井 隆宏
宮崎大学工学部
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窪寺 昌一
宮崎大学地域共同研究センター
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黒澤 宏
宮崎大学 工
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横谷 篤至
宮崎大学・工
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黒澤 宏
宮崎大学・工
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佐々木 亘
宮崎大学・工
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米谷 保幸
宮崎大学 工
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緒方 彰
宮崎大学工学研究科電気工学専攻
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吉田 国雄
大阪工業大学工学部
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黒澤 宏
宮崎大学地域共同研究センター
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甲藤 正人
宮崎大学
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藤本 健二
清本鐵工(株)
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瀧川 靖雄
大阪電気通信大学工学部電子工学科
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佐々木 亘
株式会社ナノテクフォトン
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平田 貴大
宮崎大工
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竹添 法隆
宮崎大・工
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横谷 篤至
宮崎大・工
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黒澤 宏
宮崎大・工
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竹添 法隆
宮崎大学・工
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佐々木 亘
(株)NTP
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前薗 好成
JSTサテライト宮崎
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前園 好成
宮崎大学 工学部
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本川 洋右
宮沖電気(株)
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加来 昌典
宮崎大学
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加来 昌典
宮崎大学 工学部
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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林 達哉
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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吉田 國雄
Entropia レーザー Initiative
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山中 龍彦
阪大レーザー研
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湯上 登
宇都宮大学
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西田 靖
宇都宮大学
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伊藤 弘昭
宇都宮大院工
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湯上 登
宇都宮大院工
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西田 靖
宇都宮大院工
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伊藤 弘昭
宇都宮大学大学院 工学研究科 エネルギー環境科学専攻
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湯上 登
宇都宮大学工学部
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奥田 昌宏
阪府大工
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仲前 一男
大阪府大
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瀧川 靖雄
大阪電通大
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高橋 健二
宇都宮大学大学院 工学研究科
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佐々木 孝友
大阪大学工学部
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田部 芳孝
宮崎大学工学部
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東口 武志
宮崎大学工学部
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吉原 真哉
宮崎大学工学研究科電気電子工学科
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南畑 亮
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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河仲 準二
宮崎大学フォトン科学センター
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佐々木 亘
宮崎大学フォトン科学センター
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徳永 晋次
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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米谷 保幸
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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井出上 正人
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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池田 雅樹
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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徳永 晋治
宮崎大学・工
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吉原 真哉
宮崎大学・工
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河仲 準二
宮崎大学・工
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窪寺 昌一
宮崎大学・工
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桃北 陽介
宮崎大学工学研究科電気工学専攻
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窪寺 昌一
宮崎大地域共同研究センター
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佐々木 亘
宮崎大工電気電子
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吉田 国雄
大阪大学レーザー核融合研究センター
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大串 健次
宮崎大学工学部
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伊藤 弘昭
富山大
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川崎 圭太
宮崎大学工学部電気電子工学科
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道場 直人
宮崎大学工学部電気電子工学科
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濱田 雅也
宮崎大学工学部電気電子工学科
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守田 雄亮
宮崎大学工学部
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チラグ ラジヤグル
宮崎大学工学部電気電子工学科
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東口 武史
宮崎大工
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窪寺 昌一
宮崎大工
-
平田 貴大
宮崎大学工学部電気電子工学科
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新倉 信治
スペクトラ・フィジックス株式会社
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田辺 孝純
慶応義塾大学 理工学研究科総合デザイン工学専攻
-
玉木 文武
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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酒井 尚平
宇都宮大学大学院 工学研究科
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東 鉄平
宮崎大学工学部
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高浦 真琴
日之出酸素
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伊藤 茂樹
エア・ウォーター
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大坪 毅
宮崎大学工学部
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中島 耕作
宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻
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竹添 法隆
Faculty of Eng., Miyazaki Univ.
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横谷 篤至
Faculty of Eng., Miyazaki Univ.
-
黒澤 宏
Faculty of Eng., Miyazaki Univ.
-
佐々木 亘
Faculty of Eng., Miyazaki Univ.
-
松野 博光
USIO INC
-
五十嵐 龍志
USIO INC
-
佐々木 孝友
大阪大学・工
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竹添 法隆
宮崎大学工学部電気電子工学科
-
西田 靖
宇都宮大学大学院工学研究科
-
黒沢 宏
宮崎大・工
-
徳留 勝英
宮崎大学
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藤本 健二
清本鐵工株式会社
-
徳永 晋次
宮崎大学 工
-
本川 洋右
宮崎沖電気株式会社
-
前薗 好成
宮崎大学工学部
-
前薗 好成
宮大
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吉田 国雄
大阪工業大学工学部電子工学科
-
小池 一宇
宮崎大学
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松浦 悠太
宮崎大学 工学部 電気電子工学科
-
松浦 悠太
宮崎大学 工学部
-
新倉 信治
スペクトラ・フィジックス(株)
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甲藤 正人
宮崎大学産学・地域連携センター
-
山中 龍彦
阪大レーザー:大阪大大学院工
著作論文
- 放電励起クリプトンエキシマレーザー
- ArFエキシマレーザーによるSi_3N_4膜の表面改質
- レーザー生成プラズマ極端紫外光源を用いた光脱離質量分析装置の開発
- 放電励起Kr_2エキシマレーザー
- キャピラリー無声放電による真空紫外クリプトンエキシマ発光
- 真空紫外光によるSiウェハーの低温プロセス
- 電子ビーム励起希ガスエキシマレーザー
- 真空紫外光によるSiウェハーの室温プロセス
- 電子ビーム励起ArKrヘテロエキシマレーザーの研究
- 放電励起希ガスエキシマレーザーの基礎過程
- 真空紫外光による物質プロセス
- 放電励起希ガスエキシマレーザーの研究
- 誘導ラマン効果を用いた希ガスエキシマの反転分布形成
- 超短パルスレーザー励起短波長レーザーの研究
- 光励起短波長レーザーの研究
- 無声放電励起真空紫外希ガスエキシマランプによる有機物質の超微細加工(2)
- 放電励起希ガスエキシマをラマン活性媒質とした真空紫外レーザーの基礎研究
- 放電励起希ガスエキシマの発光特性
- 混合気ガスの電気ビーム励起による異種核希ガスエキシマレーザーに関する研究
- 高性能真空紫外希ガスエキシマ光源の開発
- 高効率ガスジェット放電励起希ガスエキシマ光源
- 真空紫外光による光励起表面脱離プロセスと表面分析への応用
- 液体ターゲットを用いたレーザー生成プラズマ方式極端紫外光源
- 水ジェットターゲットを用いたレーザー生成プラズマからの極端紫外光の高効率化
- 液体タｰゲットを用いた極端紫外光源
- 光電界電離真空紫外アルゴンエキシマレーザー
- 液体ターゲットを用いたレーザー生成プラズマ方式極端紫外光源
- 産学連携と大学発ベンチャー企業
- 光電界電離を用いた真空紫外レーザー
- 28pZL-13 冷却固体ターゲットからの極端紫外線の発生
- レーザー生成プラズマからの極端紫外線発生
- 私の見たCLEO/QELS 2002
- 縦放電励起希ガスエキシマランプに関する研究
- 放電励起クリプトンエキシマーレーザー
- 超光速電離面による電磁波の周波数上昇・放射
- 石の上にも十年
- エキシマランプによるシリコンウェハのSiO_2膜の還元プロセス
- 放電励起希ガスエキシマレーザーに関する研究
- エキシマランプを用いた酸化物薄膜の作成
- 誘電体バリア放電エキシマランプを用いた薄膜形成
- エキシマランプを用いた非線形光学結晶のエッチング
- 誘電体バリア放電Xeエキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- 真空紫外光エキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- 誘電体バリアエキシマランプを用いた光CVDによる石英コーティングの開発
- 超軟X線発光分析のレーザープロセシングへの応用
- Si_3N_4膜とセラミクスに対するエキシマレーザーとYAGレーザーの照射効果
- 無声放電励起真空紫外希ガスエキシマランプによる有機物質の超微細加工
- 真空紫外エキシマランプによる光洗浄技術の開発(II)
- 真空紫外エキシマランプによる光洗浄技術の開発(I)
- VUV-CVDを用いたSiO_2膜生成における生成レート制限因子
- 真空紫外光CVDによる酸化膜形成評価
- 極端紫外光源を用いた光脱離質量分析装置の開発
- 新しい発光形態を持つ真空紫外希ガスエキシマフラッシュランプ
- 多機能真空紫外希ガスエキシマ光源
- 真空紫外希ガスエキシマ光源とその物質プロセスへの応用
- 添加ガスによる真空紫外光CVD-SiO_2膜の品質向上
- 希ガスクラスタの衝突励起過程測定用電子ビーム源の開発
- 高効率・高出力ジェット放電励起 希ガスエキシマランプの開発
- Mo-Siミラーの光洗浄と光脱離分析評価
- レーザー生成プラズマ極端紫外光源の開発と表面分析への応用
- Novel Vacuum Ultraviolet Lamps with Rare Gas Excimer (レ-ザ-研シンポジウム′96--1995年4月-1996年3月)
- 真空紫外光プロセスの現状と将来
- 新しいエキシマ光源とその将来