Novel Vacuum Ultraviolet Lamps with Rare Gas Excimer (レ-ザ-研シンポジウム′96--1995年4月-1996年3月)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- PLD法による多結晶ハイドロキシアパタイト被膜の室温成長
- 放電励起クリプトンエキシマレーザー
- ArFエキシマレーザーによるSi_3N_4膜の表面改質
- レーザー生成プラズマ極端紫外光源を用いた光脱離質量分析装置の開発
- 放電励起Kr_2エキシマレーザー
- 真空紫外光源の開発とその応用
- キャピラリー無声放電による真空紫外クリプトンエキシマ発光
- 真空紫外光によるSiウェハーの低温プロセス
- 電子ビーム励起希ガスエキシマレーザー
- 真空紫外光によるSiウェハーの室温プロセス
- 電子ビーム励起ArKrヘテロエキシマレーザーの研究
- 放電励起希ガスエキシマレーザーの基礎過程
- 真空紫外光による物質プロセス
- 放電励起希ガスエキシマレーザーの研究
- 誘導ラマン効果を用いた希ガスエキシマの反転分布形成
- 超短パルスレーザー励起短波長レーザーの研究
- 光励起短波長レーザーの研究
- 無声放電励起真空紫外希ガスエキシマランプによる有機物質の超微細加工(2)
- 放電励起希ガスエキシマをラマン活性媒質とした真空紫外レーザーの基礎研究
- 放電励起希ガスエキシマの発光特性
- 混合気ガスの電気ビーム励起による異種核希ガスエキシマレーザーに関する研究
- 高性能真空紫外希ガスエキシマ光源の開発
- PLD法によるハイドロキシアパタイト被膜の形成
- 高効率ガスジェット放電励起希ガスエキシマ光源
- 水中レーザーアブレーション法による生体親和性ナノ粒子の創成
- 真空紫外光による光励起表面脱離プロセスと表面分析への応用
- 液体ターゲットを用いたレーザー生成プラズマ方式極端紫外光源
- 水ジェットターゲットを用いたレーザー生成プラズマからの極端紫外光の高効率化
- 液体タｰゲットを用いた極端紫外光源
- 光電界電離真空紫外アルゴンエキシマレーザー
- 液体ターゲットを用いたレーザー生成プラズマ方式極端紫外光源
- 産学連携と大学発ベンチャー企業
- 光電界電離を用いた真空紫外レーザー
- 28pZL-13 冷却固体ターゲットからの極端紫外線の発生
- レーザー生成プラズマからの極端紫外線発生
- 私の見たCLEO/QELS 2002
- 縦放電励起希ガスエキシマランプに関する研究
- 放電励起クリプトンエキシマーレーザー
- 超光速電離面による電磁波の周波数上昇・放射
- 石の上にも十年
- エキシマランプによるシリコンウェハのSiO_2膜の還元プロセス
- 放電励起希ガスエキシマレーザーに関する研究
- エキシマランプを用いた酸化物薄膜の作成
- 誘電体バリア放電エキシマランプを用いた薄膜形成
- エキシマランプを用いた非線形光学結晶のエッチング
- 誘電体バリア放電Xeエキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- 真空紫外光エキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- 誘電体バリアエキシマランプを用いた光CVDによる石英コーティングの開発
- 高強度レーザー励起真空紫外アルゴンエキシマレーザー
- 超短パルス真空紫外コヒーレント光発生
- 紫外・真空紫外光源の開発と光プロセスへの応用
- 高輝度真空紫外コヒーレント光源の開発
- 高強度真空紫外アルゴンエキシマレーザーの開発
- 真空紫外光で拓く環境調和型プロセス--真空紫外光領域における光源の開発とその応用技術の開発 (特集 次世代化学技術の展望)
- 超軟X線発光分析のレーザープロセシングへの応用
- 液体スズターゲットによる高効率EUV光源の開発
- マイクロプラズマの次世代リソグラフィー用短波長光源への応用 (特集 マイクロプラズマ技術のナノ・バイオ材料工学への応用(Part1))
- 短波長光源の開発と応用 : 真空紫外光と極端紫外光
- 宮崎大学 工学部電気電子工学科 レーザー工学研究室
- 酸化錫ナノ粒子コロイドターゲットを用いる極端紫外レーザープラズマ光源のデブリ特性
- 高強度真空紫外エキシマレーザー
- 「極限をめざす光学素子技術」解説小特集号によせて
- 真空紫外光で拓く環境調和型プロセス : 高輝度真空紫外コヒーレント光源の開発とその応用技術の開発
- Si_3N_4膜とセラミクスに対するエキシマレーザーとYAGレーザーの照射効果
- 無声放電励起真空紫外希ガスエキシマランプによる有機物質の超微細加工
- 真空紫外エキシマランプによる光洗浄技術の開発(II)
- 真空紫外エキシマランプによる光洗浄技術の開発(I)
- 真空紫外光源の開発とその応用
- VUV-CVDを用いたSiO_2膜生成における生成レート制限因子
- 真空紫外光CVDによる酸化膜形成評価
- 極端紫外光源を用いた光脱離質量分析装置の開発
- 水中レーザーアブレーション法による生体親和性ナノ粒子の創成
- 新しい発光形態を持つ真空紫外希ガスエキシマフラッシュランプ
- 多機能真空紫外希ガスエキシマ光源
- 真空紫外希ガスエキシマ光源とその物質プロセスへの応用
- 添加ガスによる真空紫外光CVD-SiO_2膜の品質向上
- 希ガスクラスタの衝突励起過程測定用電子ビーム源の開発
- 高効率・高出力ジェット放電励起 希ガスエキシマランプの開発
- Mo-Siミラーの光洗浄と光脱離分析評価
- レーザー生成プラズマ極端紫外光源の開発と表面分析への応用
- レーザー生成プラズマ光源を用いたナトリウムの真空紫外域における吸収分光測定
- Novel Vacuum Ultraviolet Lamps with Rare Gas Excimer (レ-ザ-研シンポジウム′96--1995年4月-1996年3月)
- レーザー学会研究委員会の一層のご活用を
- 合金ターゲットを用いた極端紫外域におけるレーザ生成プラズマからの発光強度の増加
- 高輝度真空紫外光源の開発と極端紫外光極微細分析技術への展開
- 真空紫外光プロセスの現状と将来
- 新しいエキシマ光源とその将来