五十嵐 龍志 | ウシオ電機技術研

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概要

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  ギガフォトン(株)

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• 五十嵐 龍志

  ウシオ電機株式会社技術研究所

• 松野 博光

  ウシオ電機株式会社

• 松野 博光

  ウシオ電機

• 竹添 法隆

  ウシオ電機(株)

• 佐々木 亘

  株式会社NTP

• 黒澤 宏

  宮崎大学

• 平本 立躬

  ウシオ電機株式会社

• 竹添 法隆

  宮崎大学・工

• 竹元 史敏

  ウシオ電機株式会社

• 三橋 健一

  ウシオ電機株式会社

• 三橋 健一

  ウシオ電機

• 横谷 篤至

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 吉田 國雄

  大阪工業大学工学部

• 佐々木 亘

  宮崎大学

• 黒澤 宏

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 佐々木 亘

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 窪寺 昌一

  宮崎大学 工学部 電気電子工学科

• 河仲 準二

  宮崎大学工学部

• 河仲 準二

  宮崎大学 工

• 横谷 篤至

  宮崎大学・工

• 黒澤 宏

  宮崎大学・工

• 黒澤 宏

  宮崎大学工学部

• 吉田 国雄

  大阪工業大学工学部

• 黒澤 宏

  宮崎大学地域共同研究センター

• 菅原 寛

  ウシオ電機(株)

• 菅原 寛

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• 広瀬 賢一

  ウシオ電機株式会社

• 岡本 昌士

  ウシオ電機株式会社

• 竹添 法隆

  宮崎大・工

• 横谷 篤至

  宮崎大・工

• 黒澤 宏

  宮崎大・工

• 佐々木 亘

  宮崎大・工

• 相浦 良徳

  ウシオ電機株式会社

• 二神 英治

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 菱沼 宣是

  ウシオ電機 (株)

• 笠木 邦雄

  ウシオ電機 (株)

• 菱沼 宣是

  ウシオ電機

• 笠木 邦雄

  ウシオ電機株式会社

• 那須 昭一

  金沢工業大学工学部

• 吉田 國雄

  Entropia レーザー Initiative

• 山下 広順

  名大 理

• 山下 広順

  名古屋大 理

• 楢本 洋

  日本原子力研究所

• 中井 貞雄

  大阪大学レーザー核融合研究センター

• 西脇 勝也

  金沢工業大学

• 石田 真也

  金沢工業大学

• 越野 高

  金沢工業大学

• 山本 凉市

  金沢工業大学

• 谷藤 隆昭

  日本原子力研究所東海研

• 森本 幸裕

  ウシオ電機技術研

• 山中 正宣

  大阪大学レーザー核融合研

• 竹下 英文

  日本原子力研究所高崎研

• 那須 昭一

  金沢工業大学

• 佐々木 孝友

  大阪大学工学部

• 窪寺 昌一

  宮崎大学工学部

• 佐々木 亘

  宮崎大学 工

• 佐々木 亘

  宮崎大学・工

• 吉田 国雄

  大阪大学レーザー核融合研究センター

• 窪寺 昌一

  宮崎大学

• 横谷 篤至

  宮崎大学

• 大西 安夫

  ウシオ電機株式会社

• 山下 広順

  宇宙研

• 柳田 英明

  宮崎大学・工

• 河崎 泰宏

  宮崎大学・工

• 前園 好成

  宮崎大学・工

• 野村 涼

  宮崎大学・工

• 磯 慎一

  ウシオ電機株式会社

• 森 和之

  ウシオ電機株式会社

• 佐々木 孝友

  大阪大学・工

• 竹添 法隆

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 高田 敏明

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 菱沼 宜是

  ウシオ電機株式会社

• 朝比奈 隆

  ウシオ電機株式会社

• 豊間根 孝雄

  ウシオ電機株式会社

• 松島 竹夫

  ウシオ電機株式会社

• 本田 雅則

  宮崎大学 工学部

• 北原 満雄

  宮崎大学 工学部

• 野村 涼

  宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻

• 前薗 好成

  JSTサテライト宮崎

• 前園 好成

  宮崎大学 工学部

• 柳田 英明

  宮崎大学 地域共同研究センター

• 河崎 泰宏

  分子科学研究所

• 吉田 国雄

  大阪工業大学工学部電子工学科

• 河崎 泰宏

  宮崎大

• 北原 満雄

  宮崎大学工学研究科電気工学専攻

• 横谷 篤至

  宮崎大学工学部

• 谷藤 隆昭

  日本原子力研究所セラミック燃料研究室

• 中井 貞雄

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

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著作論文

• 石英ガラスの4.4eV発光の照射効果
• 150. Kr_2^*エキシマ光の窒素による吸収特性
• 44.誘電体バリア放電を利用したヘッドオン型Ar_2^*、Kr_2^*エキシマランプの特性((2)光源・回路・放電現象[II] : HIDランプ及びその他)
• エキシマランプを用いた酸化物薄膜の作成
• 真空紫外エキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
• 154. Xe_2^*エキシマランプによるUV/O_3洗浄
• 149. Xe_2^*エキシマランプの172nm放射の測定
• 35. 短波長ロングアークランプの特性
• エキシマランプを用いた非線形光学結晶のエッチング
• 誘電体バリア放電Xeエキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
• 43.希ガス-塩素系誘電体バリア放電エキシマランプにおけるE/pと放射効率((2)光源・回路・放電現象[II] : HIDランプ及びその他)
• 真空紫外光エキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
• 誘電体バリアエキシマランプを用いた光CVDによる石英コーティングの開発
• ガスジェット放電励起真空紫外キセノンエキシマ光源
• S-8 誘電体バリア放電励起エキシマランプ
• 49. 誘電体バリア放電Xe_2^*エキシマランプの並列点灯による大面積真空紫外平面光源
• 48. 中空ライトガイド付きヘッドオン型Xe_2^*エキシマ光照射装置
• 24. UV照射による石英ガラスのガス放出特性
• ガスジェット放電励起キセノンエキシマ光源の高性能化
• 無声放電励起希ガスエキシマフラッシュランプ
• 誘電体バリア放電エキシマランプの原理と応用

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