150. Kr_2^*エキシマ光の窒素による吸収特性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人照明学会の論文
- 1997-03-28
著者
-
五十嵐 龍志
ウシオ電機技術研
-
五十嵐 龍志
ギガフォトン(株)
-
菅原 寛
ウシオ電機(株)
-
菅原 寛
ウシオ電機
-
広瀬 賢一
ウシオ電機株式会社
-
松野 博光
ウシオ電機株式会社
-
五十嵐 龍志
ウシオ電機(株)
-
五十嵐 龍志
ウシオ電気
-
五十嵐 龍志
ウシオ電機株式会社技術研究所
-
松野 博光
ウシオ電機
関連論文
- 石英ガラスの4.4eV発光の照射効果
- 放電励起Kr_2エキシマレーザー
- ヘッドオン型Ar_2^*, Kr_2^*エキシマ光照射装置の特性
- 光源・回路-9 セラミックス発光管から成る色温度4000Kの低ワットメタルハライドランプ:色特性の飛躍的改善 van Lierop, F.H., Rojas, C.A., Nelson, G.J., Dielis, H.and Suijker, J.L.G. : 4000K Low Wattage Metal Halide Lamps with Ceramic Envelopes:A Breakthrough in Color Quality〔Journal of the Illuminating Eng
- 光放射の計測-2 光束測定における空間的不均一性誤差に関する積分球シミュレーション, Ohno,Y.and Daubach,R.O., Integrating Sphere Simulation on Spatial Nonuniformity Errors in Luminous Flux Measurement, Proceedings of 2000 IESNA Annual Conference, pp.545-561(2000)
- 光関連デバイス-1 熱負荷条件下での石英ファイバ製光カプラの構造的安定性解析 Driscoll, D., Yazdanian, M.and Siminovitch, M. : Structual Stability Analysis of a Quartz Fiber Optic Coupler Under Thermal Loading[Journal of Illuminating Engineering Society, Vol.29, No.1, pp.59-65(2000)]
- 照明の実際-2, 塗装検査照明 : ランプ長と間隔の最適化, Lloyd, C., Boyce, P., Ferzacca, N., Eklund, N. and He, Y., Paint Inspection Lighting : Optimization of Lamp Width and Spacing, Journa1 of the Illuminating Engineering Society, Vo1.28, No.1, pp.92-102, 1999
- 基礎事項-1 環状レンズ式光ガイドを用いた光分布の研究, Whitead, L. A. and Donaldson, M., Investigation of Light Distribution with an Annular Lens Light Guide, Journal of the Illuminating Engineering Society, Vol.27, No.2, pp.3-12, 1998
- その他-3 光生物学的安全性と危険性 : ANSI/IESNA RP-27シリーズ, Revin, R. E. : Photobiological Safty and Risk-ANSI/IESNA RP-27Series, Journal of the Illuminating Engineering Society, Vol.27, No.1, pp.136-143, 1998
- 輝度から強度への測定手法(測定-1)
- 39. バースト駆動型Kr_2エキシマ光照射装置((2)光源・回路・放電現象〔II〕(HIDランプ関係)
- 150. Kr_2^*エキシマ光の窒素による吸収特性
- 44.誘電体バリア放電を利用したヘッドオン型Ar_2^*、Kr_2^*エキシマランプの特性((2)光源・回路・放電現象[II] : HIDランプ及びその他)
- エキシマランプを用いた酸化物薄膜の作成
- 真空紫外エキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- 誘電体バリア放電エキシマランプを用いた薄膜形成
- 154. Xe_2^*エキシマランプによるUV/O_3洗浄
- 149. Xe_2^*エキシマランプの172nm放射の測定
- 35. 短波長ロングアークランプの特性
- エキシマランプを用いた非線形光学結晶のエッチング
- 誘電体バリア放電Xeエキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- 43.希ガス-塩素系誘電体バリア放電エキシマランプにおけるE/pと放射効率((2)光源・回路・放電現象[II] : HIDランプ及びその他)
- 真空紫外光エキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
- 誘電体バリアエキシマランプを用いた光CVDによる石英コーティングの開発
- ガスジェット放電励起真空紫外キセノンエキシマ光源
- S-8 誘電体バリア放電励起エキシマランプ
- 49. 誘電体バリア放電Xe_2^*エキシマランプの並列点灯による大面積真空紫外平面光源
- 48. 中空ライトガイド付きヘッドオン型Xe_2^*エキシマ光照射装置
- 24. UV照射による石英ガラスのガス放出特性
- ガスジェット放電励起キセノンエキシマ光源の高性能化
- 無声放電励起希ガスエキシマフラッシュランプ
- 誘電体バリア放電エキシマランプの原理と用途例
- 真空紫外希ガスエキシマランプを用いた光CVD
- 真空紫外エキシマランプ光CVDによるシリカ薄膜常圧形成技術の開発
- 各論 エキシマレーザ技術の進歩と次世代技術の現実的対応 (特集2 半導体製造技術・装置の技術展望)
- 誘電体バリア放電エキシマランプの原理と応用
- Xe_2^*エキシマランプを用いたUV/O_3洗浄の検討
- エキシマランプとその応用
- 4.エキシマランプ(光源としてのプラズマ : 基礎と最近の研究から)
- 40. 光量が安定化されたエキシマ紫外線照射装置の開発((2)光源・回路・放電現象〔II〕(HIDランプ関係)