五十嵐 龍志 | ウシオ電機株式会社技術研究所

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概要

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関連著者

• 五十嵐 龍志

  ギガフォトン(株)

• 五十嵐 龍志

  ウシオ電気

• 五十嵐 龍志

  ウシオ電機株式会社技術研究所

• 五十嵐 龍志

  ウシオ電機(株)

• 五十嵐 龍志

  ウシオ電機技術研

• 松野 博光

  ウシオ電機

• 松野 博光

  ウシオ電機株式会社

• 佐々木 亘

  株式会社NTP

• 竹添 法隆

  ウシオ電機(株)

• 黒澤 宏

  宮崎大学

• 佐々木 亘

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 平本 立躬

  ウシオ電機株式会社

• 竹添 法隆

  宮崎大学・工

• 竹元 史敏

  ウシオ電機株式会社

• 横谷 篤至

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 吉田 國雄

  大阪工業大学工学部

• 黒澤 宏

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 河仲 準二

  宮崎大学工学部

• 窪寺 昌一

  宮崎大学工学部

• 横谷 篤至

  宮崎大学・工

• 黒澤 宏

  宮崎大学・工

• 黒澤 宏

  宮崎大学工学部

• 吉田 国雄

  大阪工業大学工学部

• 菅原 寛

  ウシオ電機(株)

• 菅原 寛

  ウシオ電機

• 岡本 昌士

  ウシオ電機株式会社

• 竹添 法隆

  宮崎大・工

• 横谷 篤至

  宮崎大・工

• 黒澤 宏

  宮崎大・工

• 佐々木 亘

  宮崎大・工

• 磯 慎一

  ウシオ電機株式会社

• 三橋 健一

  ウシオ電機株式会社

• 相浦 良徳

  ウシオ電機株式会社

• 笠木 邦雄

  ウシオ電機 (株)

• 河崎 泰宏

  分子科学研究所

• 笠木 邦雄

  ウシオ電機株式会社

• 河崎 泰宏

  宮崎大

• 三橋 健一

  ウシオ電機

• 河仲 準二

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• 吉田 國雄

  Entropia レーザー Initiative

• 河仲 準二

  大阪大学 レーザーエネルギー学研究センター

• 佐々木 亘

  宮崎大学

• 河仲 準二

  日本原子力研究所光量子科学研究センター

• 佐々木 孝友

  大阪大学工学部

• 白井 隆宏

  宮崎大学工学部

• 田部 芳孝

  宮崎大学工学部

• 東口 武志

  宮崎大学工学部

• 佐々木 亘

  宮崎大学・工

• 白井 隆宏

  宮崎大工電気電子

• 横谷 篤至

  宮崎大

• 吉田 国雄

  大阪大学レーザー核融合研究センター

• 黒澤 宏

  宮崎大学地域共同研究センター

• 横谷 篤至

  宮崎大学

• 広瀬 賢一

  ウシオ電機株式会社

• 大西 安夫

  ウシオ電機株式会社

• 柳田 英明

  宮崎大学・工

• 河崎 泰宏

  宮崎大学・工

• 前園 好成

  宮崎大学・工

• 野村 涼

  宮崎大学・工

• 竹添 法隆

  Faculty of Eng., Miyazaki Univ.

• 横谷 篤至

  Faculty of Eng., Miyazaki Univ.

• 黒澤 宏

  Faculty of Eng., Miyazaki Univ.

• 佐々木 亘

  Faculty of Eng., Miyazaki Univ.

• 松野 博光

  USIO INC

• 五十嵐 龍志

  USIO INC

• 森 和之

  ウシオ電機株式会社

• 佐々木 孝友

  大阪大学・工

• 竹添 法隆

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 二神 英治

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 高田 敏明

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 菱沼 宣是

  ウシオ電機 (株)

• 菱沼 宜是

  ウシオ電機株式会社

• 野村 涼

  宮崎大学工学研究科電気電子工学専攻

• 前薗 好成

  JSTサテライト宮崎

• 窪寺 昌一

  宮崎大学工学部電気電子工学科

• 前園 好成

  宮崎大学 工学部

• 柳田 英明

  宮崎大学 地域共同研究センター

• 吉田 国雄

  大阪工業大学工学部電子工学科

• 宮野 淳一

  宮崎マシンデザイン

• 河仲 準二

  大阪大 レーザーエネルギー学研究セ

• 竹添 法隆

  分子研

• 菱沼 宣是

  ウシオ電機

• 五十嵐 龍志

  株式会社ウシオ総合技術研究所

• 黒澤 宏

  分子研

• 五十嵐 龍志

  ウジオ電気

• 松野 博光

  ウジオ電気

• 横谷 篤至

  宮崎大学工学部

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著作論文

• 放電励起Kr_2エキシマレーザー
• 150. Kr_2^*エキシマ光の窒素による吸収特性
• 44.誘電体バリア放電を利用したヘッドオン型Ar_2^*、Kr_2^*エキシマランプの特性((2)光源・回路・放電現象[II] : HIDランプ及びその他)
• エキシマランプを用いた酸化物薄膜の作成
• 真空紫外エキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
• 誘電体バリア放電エキシマランプを用いた薄膜形成
• 154. Xe_2^*エキシマランプによるUV/O_3洗浄
• 149. Xe_2^*エキシマランプの172nm放射の測定
• 35. 短波長ロングアークランプの特性
• エキシマランプを用いた非線形光学結晶のエッチング
• 誘電体バリア放電Xeエキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
• 43.希ガス-塩素系誘電体バリア放電エキシマランプにおけるE/pと放射効率((2)光源・回路・放電現象[II] : HIDランプ及びその他)
• 真空紫外光エキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング
• 誘電体バリアエキシマランプを用いた光CVDによる石英コーティングの開発
• ガスジェット放電励起真空紫外キセノンエキシマ光源
• S-8 誘電体バリア放電励起エキシマランプ
• 49. 誘電体バリア放電Xe_2^*エキシマランプの並列点灯による大面積真空紫外平面光源
• 真空紫外希ガスエキシマランプを用いた光CVD
• 誘電体バリア放電エキシマランプの原理と応用
• Xe_2^*エキシマランプを用いたUV/O_3洗浄の検討

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