Xe_2^*エキシマランプを用いたUV/O_3洗浄の検討
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概要
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UV/O_3 cleaning by an Xe_2^* excimer lamp was investigated under various experimental conditions. We found that UV/O_3 cleaning was caused by excited atomic oxygen {O(-1D)} and that the cleaning speed was about six times faster than that using a low-pressure Hg lamp.
- 1999-05-01
著者
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五十嵐 龍志
ギガフォトン(株)
-
五十嵐 龍志
ウシオ電機(株)
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五十嵐 龍志
ウシオ電気
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五十嵐 龍志
ウシオ電機株式会社技術研究所
-
磯 慎一
ウシオ電機株式会社
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松野 博光
ウシオ電機
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五十嵐 龍志
株式会社ウシオ総合技術研究所
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