河仲 準二 | 宮崎大学 工
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概要
関連著者
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河仲 準二
宮崎大学 工
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佐々木 亘
株式会社NTP
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河仲 準二
宮崎大学工学部
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河仲 準二
大阪大学レーザーエネルギー学研究センター
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窪寺 昌一
宮崎大学 工学部 電気電子工学科
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黒澤 宏
宮崎大学
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佐々木 亘
宮崎大学
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佐々木 亘
宮崎大学 工
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窪寺 昌一
宮崎大学
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窪寺 昌一
宮崎大学工学部電気電子工学科
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五十嵐 龍志
ウシオ電機技術研
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横谷 篤至
宮崎大学 工学部 電気電子工学科
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五十嵐 龍志
ギガフォトン(株)
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黒澤 宏
宮崎大学 工
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五十嵐 龍志
ウシオ電機(株)
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河仲 準二
大阪大学 レーザーエネルギー学研究センター
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吉原 真哉
宮崎大学 工
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米谷 保幸
宮崎大学 工
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黒澤 宏
宮崎大学地域共同研究センター
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横谷 篤至
宮崎大学
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松野 博光
ウシオ電機株式会社
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三橋 健一
ウシオ電機株式会社
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二神 英治
宮崎大学工学部電気電子工学科
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本田 雅則
宮崎大学 工学部
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北原 満雄
宮崎大学 工学部
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徳留 勝英
宮崎大学
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徳永 晋次
宮崎大学・工
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徳永 晋次
宮崎大学 工
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松野 博光
ウシオ電機
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河仲 準二
大阪大 レーザーエネルギー学研究セ
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小池 一宇
宮崎大学
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北原 満雄
宮崎大学工学研究科電気工学専攻
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三橋 健一
ウシオ電機
著作論文
- 真空紫外光によるSiウェハーの室温プロセス
- 放電励起希ガスエキシマの発光特性
- ガスジェット放電励起キセノンエキシマ光源の高性能化
- 無声放電励起希ガスエキシマフラッシュランプ
- 無声放電励起真空紫外希ガスエキシマランプによる有機物質の超微細加工
- 新しい発光形態を持つ真空紫外希ガスエキシマフラッシュランプ
- 真空紫外希ガスエキシマ光源とその物質プロセスへの応用
- 希ガスクラスタの衝突励起過程測定用電子ビーム源の開発