市川 昌和 | CREST-JST

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概要

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関連著者

• 市川 昌和

  CREST-JST

• 市川 昌和

  東大工

• 市川 昌和

  東京大学大学院工学系研究科物理工学専攻

• 趙 星彪

  名大エコ研

• 田中 信夫

  名大エコトピア研

• 田中 信夫

  国立大学法人東京工業大学男女共同参画推進センター

• 中村 芳明

  東大工

• 中村 芳明

  CREST-JST

• 中村 芳明

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• 趙 星彪

  CREST-JST

• 田中 信夫

  CREST-JST

• 趙 星彪

  名大エコトピア研

• 松田 巌

  東大物性研

• 長谷川 修司

  東大理

• 山崎 順

  名大エコ研

• 山崎 順

  名大エコトピア研

• 平原 徹

  東大理

• 保原 麗

  東大理

• 吉本 真也

  東大物性研

• 中山 泰生

  千葉大先進

• 田中 信夫

  名古屋大学

• 福田 憲二郎

  名大院工

• 中山 泰生

  千葉大学先進科学センター

• 奥西 栄治

  日本電子(株)

• 沖野 泰之

  東大理

• 山崎 詩郎

  東大理

• 山崎 詩郎

  東京大学大学院理学系研究科物理学専攻

• 山崎 詩郎

  東京大学大学院理学系研究科:npo法人science Station

• 中山 泰生

  CREST-JST

• 吉本 真也

  東大理

• 保原 麗

  東京大学大学院理学系研究科物理学教室

• Shklyaev Alexander

  CREST-JST

• 奥西 栄治

  日本電子:jst-crest

• 市川 昌和

  Crest-jst:東大工

• 奥西 栄治

  日本電子

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著作論文

• 24pPSA-45 極薄Si酸化膜上にエピタシャル成長したFe_3Siナノドットの構造評価(ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 21aPS-71 極薄Si酸化膜上に成長したFe-Siナノドットの構造評価(II)(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 15aPS-4 極薄 Si 酸化膜上に成長した Fe-Si ナノドットの構造評価(領域 9)
• 18aTG-11 極薄Si酸化膿上Geナノドットの伝導機構の研究(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 23pTC-9 極薄Si酸化膜を用いたSi(001)表面上のGeナノドットの微細構造および組成の評価(X線・粒子線(電子線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)

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