趙 星彪 | 名大エコ研
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概要
関連著者
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趙 星彪
名大エコ研
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田中 信夫
名大エコトピア研
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田中 信夫
国立大学法人東京工業大学男女共同参画推進センター
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田中 信夫
名古屋大学
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趙 星彪
CREST-JST
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市川 昌和
東大工
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田中 信夫
CREST-JST
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趙 星彪
名大エコトピア研
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市川 昌和
東京大学大学院工学系研究科物理工学専攻
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川野 晋司
名古屋大学工学研究科結晶材料工学専攻
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山崎 順
名大エコトピア研
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中村 芳明
東大工
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市川 昌和
CREST-JST
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田中 信夫
名大院工
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川野 晋司
名大院工
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中村 芳明
大阪大学大学院基礎工学研究科
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藤林 裕明
名大院工
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中村 芳明
CREST-JST
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齋藤 晃
名大エコトピア研
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齋藤 晃
東北大多元研
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奥西 栄治
日本電子(株)
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齋藤 晃
名古屋大学エコトピア科学研究所
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山崎 順
名古屋大学エコトピア科学研究機構工学研究科
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斎藤 晃
東北大学多元物質科学研究所
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奥西 栄治
日本電子:jst-crest
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斎藤 晃
東北大学 科学計測研究所
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山崎 順
名古屋大学エコトピア科学研究所
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奥西 栄治
日本電子
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山崎 順
名大エコ研
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福田 憲二郎
名大院工
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趙 星彪
CIRSE-JST
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中村 芳明
CIRSE-JST
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田中 信夫
CIRSE-JST
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市川 昌和
CIRSE-JST
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Shklyaev Alexander
CREST-JST
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平原 佳織
名城大理工
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趙 星彪
名大院工
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趙 星彪
名古屋大学エコトピア科学研究所
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平原 佳織
名古屋大学エコトピア科学研究所
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国枝 大佳
名大院工
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平原 佳織
阪大
著作論文
- 24pPSA-45 極薄Si酸化膜上にエピタシャル成長したFe_3Siナノドットの構造評価(ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 25aYH-3 HRTEMおよびHAADF-STEMによるβ-FeSi_2ナノドットの微細構造評価(25aYH 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21aPS-71 極薄Si酸化膜上に成長したFe-Siナノドットの構造評価(II)(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 15aPS-4 極薄 Si 酸化膜上に成長した Fe-Si ナノドットの構造評価(領域 9)
- 23pTC-9 極薄Si酸化膜を用いたSi(001)表面上のGeナノドットの微細構造および組成の評価(X線・粒子線(電子線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
- 27aYH-7 UHV in-situ TEMによる極薄Si酸化膜付Si基板上に成長するGeナノドットの歪み評価-II(結晶成長,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 28pTE-1 UHV in-situ TEMによる極薄Si酸化膜付Si基板上に成長するGeナノドットの歪み評価(28pTE 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26aYF-8 Geometric Phase Methodによる局所的な歪み解析の評価(X線・粒子線(電子線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
- UHV in-situとC_s-corrected HRTEMによる極薄Si酸化膜上でのGeナノドットの核形成・成長,および微細構造の評価(結晶評価技術の新展開)
- 21pTG-5 Si(111)表面上に形成されたGeナノドットの表面構造の評価(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 19aXC-10 極薄Si酸化膜上でのGeナノドットの核形成・成長に関する研究(X線・粒子線(電子線),領域10,誘導体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
- 19pXC-8 収差補正STEM/TEMによる半導体ナノ構造体の研究 : 量子ドット・クラスター・単原子(シンポジウム 最新電子顕微鏡法を使った物性研究のいぶき,領域10,誘導体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
- 26pYC-4 Si基板上Geナノドット成長中における表面構造のreal-time HRTEM観察(26pYC 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 20pXA-6 UHV-TEMによる極薄Si酸化膜を用いたSi(111)表面上でのGeナノドット形成過程の評価(II)(表面・界面ダイナミクス(半導体表面・実験),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26pXD-2 極薄Si酸化膜を用いたSi(111)表面上でのGeナノドット形成過程のUHV-TEMその場観察(表面・界面ダイナミクス,領域9(表面・界面, 結晶成長))