田中 信夫 | 国立大学法人東京工業大学男女共同参画推進センター
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概要
関連著者
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田中 信夫
国立大学法人東京工業大学男女共同参画推進センター
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趙 星彪
名大エコ研
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田中 信夫
名大エコトピア研
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趙 星彪
名大エコトピア研
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田中 信夫
名古屋大学
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趙 星彪
CREST-JST
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田中 信夫
名大院工
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川野 晋司
名古屋大学工学研究科結晶材料工学専攻
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川野 晋司
名大院工
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胡 建軍
名大 工
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藤林 裕明
名大院工
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中村 芳明
東大工
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市川 昌和
東大工
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中村 芳明
CREST-JST
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市川 昌和
CREST-JST
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田中 信夫
CREST-JST
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市川 昌和
東京大学大学院工学系研究科物理工学専攻
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中村 芳明
大阪大学大学院基礎工学研究科
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趙 星彪
早稲田大学各務記念材料技術研究所
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大坂 敏明
早大理工:早大材研
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趙 星彪
名大理工総研
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田中 信夫
名大理工総研
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田中 信夫
名大 工
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成瀬 延康
早稲田大学各務記念材料技術研究所
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福田 憲二郎
名大院工
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大坂 敏明
早大理工
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大坂 敏明
早大材研:早大理工
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千葉 幸一郎
早大理工
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成瀬 延康
早大材研
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趙 星彪
名大院工
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国枝 大佳
名大院工
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胡 建軍
名古屋大学工学研究科応用物理
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田中 信夫
名大 工学部
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胡 建軍
名大 工学部
著作論文
- 24pPSA-45 極薄Si酸化膜上にエピタシャル成長したFe_3Siナノドットの構造評価(ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 21aPS-71 極薄Si酸化膜上に成長したFe-Siナノドットの構造評価(II)(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 15aPS-4 極薄 Si 酸化膜上に成長した Fe-Si ナノドットの構造評価(領域 9)
- 28pXM-1 プランビューHRTEMによるIII-V族化合物半導体の再構成表面構造の観察(X線・粒子線(電子線))(領域10)
- 27aYH-7 UHV in-situ TEMによる極薄Si酸化膜付Si基板上に成長するGeナノドットの歪み評価-II(結晶成長,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 28pTE-1 UHV in-situ TEMによる極薄Si酸化膜付Si基板上に成長するGeナノドットの歪み評価(28pTE 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26aYF-8 Geometric Phase Methodによる局所的な歪み解析の評価(X線・粒子線(電子線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
- 21pTG-5 Si(111)表面上に形成されたGeナノドットの表面構造の評価(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 19aXC-10 極薄Si酸化膜上でのGeナノドットの核形成・成長に関する研究(X線・粒子線(電子線),領域10,誘導体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
- 26pYC-4 Si基板上Geナノドット成長中における表面構造のreal-time HRTEM観察(26pYC 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 20pXA-6 UHV-TEMによる極薄Si酸化膜を用いたSi(111)表面上でのGeナノドット形成過程の評価(II)(表面・界面ダイナミクス(半導体表面・実験),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26pXD-2 極薄Si酸化膜を用いたSi(111)表面上でのGeナノドット形成過程のUHV-TEMその場観察(表面・界面ダイナミクス,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 30aYL-8 東京工業大学の女性研究者支援モデル(30aYL 物理と社会シンポジウム:研究・教育の場における男女共同参画-拡大する女性研究者支援と今後の展望,物理と社会)
- 30aYL-8 東京工業大学の女性研究者支援モデル(30aYL 物理と社会シンポジウム:研究・教育の場における男女共同参画-拡大する女性研究者支援と今後の展望,物理と社会)
- 30aYL-8 東京工業大学の女性研究者支援モデル(30aYL 物理と社会シンポジウム:研究・教育の場における男女共同参画-拡大する女性研究者支援と今後の展望,物理と社会)
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- 20aPS-51 InSb{111} A, B-(2×2) 表面上での Au 蒸着素過程の直接観察
- 28aXC-5 球面収差補正HRTBMにおける色収差条件と軸あわせ問題
- 27pYA-5 電子チャネリング理論による高分解能電顕像のイメージデコンボリューション処理の基礎づけ
- 5a-X-8 結晶構造像・格子像の直観的解釈について : 動力学回折効果の効き方
- 5a-X-7 Ge/Si(001)界面構造の高分解能観察とモデルフリー解析