19aXC-10 極薄Si酸化膜上でのGeナノドットの核形成・成長に関する研究(X線・粒子線(電子線),領域10,誘導体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2007-02-28

著者

• 田中 信夫

  名大エコトピア研

• 田中 信夫

  名古屋大学

• 田中 信夫

  国立大学法人東京工業大学男女共同参画推進センター

• 趙 星彪

  CREST-JST

• 田中 信夫

  CREST-JST

• 趙 星彪

  名大エコ研

• 川野 晋司

  名古屋大学工学研究科結晶材料工学専攻

• 川野 晋司

  名大院工

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