藤林 裕明 | 名大院工
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概要
関連著者
著作論文
- 27aYH-7 UHV in-situ TEMによる極薄Si酸化膜付Si基板上に成長するGeナノドットの歪み評価-II(結晶成長,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 28pTE-1 UHV in-situ TEMによる極薄Si酸化膜付Si基板上に成長するGeナノドットの歪み評価(28pTE 結晶成長,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 26aYF-8 Geometric Phase Methodによる局所的な歪み解析の評価(X線・粒子線(電子線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)