24pPSA-45 極薄Si酸化膜上にエピタシャル成長したFe_3Siナノドットの構造評価(ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2008-02-29
著者
-
福田 憲二郎
名大院工
-
田中 信夫
国立大学法人東京工業大学男女共同参画推進センター
-
中村 芳明
東大工
-
市川 昌和
東大工
-
趙 星彪
CREST-JST
-
中村 芳明
CREST-JST
-
市川 昌和
CREST-JST
-
田中 信夫
CREST-JST
-
市川 昌和
東京大学大学院工学系研究科物理工学専攻
-
趙 星彪
名大エコ研
-
中村 芳明
大阪大学大学院基礎工学研究科
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