21aXB-11 Siキャップ層の発光特性に及ぼすGe_<1-x>Sn_xナノドットの構造・組成変化の効果(21aXB 表面界面ダイナミクス,表面ナノ構造量子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
-
21aXB-11 Siキャップ層の発光特性に及ぼすGe_Sn_xナノドットの構造・組成変化の効果(21aXB 表面界面ダイナミクス,表面ナノ構造量子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
-
24pPSA-45 極薄Si酸化膜上にエピタシャル成長したFe_3Siナノドットの構造評価(ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
-
23aTD-4 Si基板上に形成したGeSn量子ドットの電子状態と発光特性のドットサイズ依存性(表面ナノ構造量子物性,微粒子クラスタ,領域9,表面・界面,結晶成長)
-
21pXK-7 STM光吸収分光法におけるサブギャップ光吸収信号の起源(結晶成長,表面局所光学現象,領域9,表面・界面,結晶成長)
-
19aWH-5 Si上のβ-FeSi_2ドットのSTM電場変調ナノ分光測定(表面局所光学現象,領域9,表面・界面,結晶成長)
-
26aYC-3 STM探針からの正孔注入によるフラーレンの重合・解離反応とその機構(26aYC 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
-
25aYH-3 HRTEMおよびHAADF-STEMによるβ-FeSi_2ナノドットの微細構造評価(25aYH 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
-
23aYC-6 STM探針によるサブギャップ光吸収の検出(23aYC 表面局所光学現象,領域9(表面・界面,結晶成長))
-
21aPS-71 極薄Si酸化膜上に成長したFe-Siナノドットの構造評価(II)(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
-
20aYE-2 酸化Si表面上Geナノドットの量子サイズ効果の直接観測(表面ナノ構造量子物性,ナノチューブ・ナノワイヤ,領域9(表面・界面,結晶成長))
-
19pXF-5 STMプローブ励起C_重合・解離反応におけるクラスタ間距離効果の機構(微粒子・クラスタ,領域9(表面・界面,結晶成長))
-
15aPS-4 極薄 Si 酸化膜上に成長した Fe-Si ナノドットの構造評価(領域 9)
-
21aYD-4 STM 金属探針直下における光電場増強効果の実測
-
28aWD-8 Si(111) 表面における STM からの電子注入と量子拡散
-
19aTG-3 イオン堆積アモルファスカーボン膜のSTM探針によるナノ構造変化
-
19aTG-2 STM探針により誘起されるグラファイト結晶中の照射欠陥の構造変化
-
17aTJ-5 C_クラスタ重合のSTM直接観察
-
30aTA-8 プローブ励起原子移動 : Si(100)表面上のCl原子の場合
-
25pTA-8 プローブ励起によって誘起されるSi表面上Cl原子拡散の広がり効果の解釈
-
25aT-6 STMプローブによる電子引き抜きが誘起するSi(111)-(7×7)表面上のCl原子移動
-
24aY-2 ナノメータスケールSi(001)開口部に選択成長したSi結晶のファセット形成
-
24aY-1 極薄酸化膜を用いたSi(001)上のGeの選択成長のSTM観察
-
23pTC-9 極薄Si酸化膜を用いたSi(001)表面上のGeナノドットの微細構造および組成の評価(X線・粒子線(電子線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
-
22pTD-6 極薄酸化膜のSi開口部におけるGe/Siナノ結晶の成長過程とステップ間相互作用
-
22pTD-6 極薄酸化膜のSi開口部におけるGe/Siナノ結晶の成長過程とステップ間相互作用
-
塩素吸着シリコン表面のレーザー励起エッチング
-
25aT-2 STMプローブ励起によるC_クラスター重合
-
24pW-11 Si表面上Cl拡散を誘起するSTM探針注入電流の空間的広がり
-
28p-Q-5 STMプローブにより誘起されるSi表面上のCl原子移動
-
25a-YM-12 STM探針からキャリア注入したC1吸着Si表面のその場観察
-
シリコン表面界面のナノスケール観察技術
-
極薄Si酸化膜を用いたエピタキシャル量子ドット二次元ナノ配列構造の自己組織化と自己修復
-
貼り合わせ直接接合SrTiO_3(001)基板の抵抗スイッチング特性評価(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
-
27pEA-7 B20型MnFe_xSi薄膜におけるスキルミオン形成とトポロジカルホール効果(マルチフェロ1,領域8(強相関系分野:高温超伝導,強相関f電子系など))
-
6pSE-13 STM プローブ励起によって誘起されるC_2量体の解離(フラーレン,領域7)
-
6aSP-9 Si(111)-7×7表面上における光誘起塩素原子拡散のSTM直接観察(表面界面ダイナミクス,領域9)
-
Si基板上への鉄酸化物ナノドットのエピタキシャル成長とその電子状態測定(高誘電率膜,界面制御,メモリ技術,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
-
貼り合わせ直接接合SrTiO_3(001)基板の抵抗スイッチング特性評価
もっと見る
閉じる
スポンサーリンク